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摘要
第一章 绪论
1.1 非易失性存储器研究背景
1.1.1 非易失性存储器简介
1.1.2 非易失性存储器市场现状
1.2 新型非易失性存储器的分类与结构原理简介
1.2.1 铁电存储器(FeRAM)
1.2.2 相变存储器(PRAM)
1.2.3 磁阻存储器(MRAM)
1.2.4 阻变存储器(RRAM)
1.3 RRAM研究进展
1.3.1 电阻开关效应分类
1.3.2 具有阻变效应的材料体系
1.3.3 电阻开关的物理机制简介
1.4 本文的研究内容及意义
第二章 NiOx薄膜的制备及微结构表征
2.1 NiOx薄膜的制备与微观观测方法简介
2.1.1 射频磁控溅射原理简介
2.1.2 X射线衍射仪(XRD)原理简介
2.1.3 扫描电子显微镜(SEM)原理简介
2.1.4 透射电子显微镜(TEM)原理简介
2.1.5 X射线光电子能谱(XPS)原理简介
2.2 NiOx薄膜的制备与微结构表征
2.2.1 NiOx薄膜晶体结构的XRD观测与分析
2.2.2 NiOx薄膜表面形貌的SEM观测与分析
2.2.3 薄膜横截面微结构HRTEM观测与分析
2.2.4 NiOx薄膜成分的XPS观测与分析
2.3 本章小结
第三章 不同氧分压氛围沉积制备NiOx薄膜磁性和电阻开关特性
3.1 不同氧分压沉积制备NiOx薄膜的磁性测量与分析
3.2 Ag/NiOx/Pt电容器结构的制备及电学性能测试
3.3 不同氧分压氛围制备的Ag/NiOx/Pt电容器结构的电阻开关特性
3.4 20%氧分压沉积制备NiOx薄膜隧穿电流机制探究
3.5 本章小结
第四章 扫描电压幅值对NiOx薄膜电阻开关特性的调控
4.1 实验方案及测试参数
4.2 不同扫描电压下Ag/NiOx/Pt电容器结构的电阻开关特性
4.3 高/低扫描电压下Ag/NiOx/Pt电容器结构隧穿电流物理机制探讨
4.4 高/低扫描电压下的Ag/NiOx/Pt电容器结构电阻开关物理机制分析
4.5 本章小结
第五章 薄膜厚度对Ag/NiOx/Pt电容器结构电阻开关特性的影响
5.1 薄膜沉积速率的标定
5.2 不同厚度NiOx薄膜的电阻开关特性
5.2.1 20nm NiOx薄膜I-V曲线循环方向与循环稳定性
5.2.2 60nm NiOx薄膜I-V曲线循环方向与循环稳定性
5.2.3 20nm NiOx薄膜的电流隧穿机制研究
5.3 不同薄膜厚度下NiOx薄膜的电阻开关机制研究
第六章 温度对Ag/NiOx/Pt电容器存储单元电流-电压曲线的影响
6.1 20%氧分压沉积制备的20nm NiOx薄膜在不同测试温度下的I-V曲线分析
6.2 20%氧分压沉积制备的60nm NiOx薄膜在不同测试温度下的I-V曲线分析
6.3 本章小结
第七章 结论与展望
参考文献
硕士期间发表论文
参加学术活动情况
致谢