Institut de Microelectrdnica de Barcelona - Centre Nacional de Microelectr6nica (IMB-CNM), CSIC, Campus UAB, Bellaterra 08193, Barcelona, Spain;
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机译:具有快速热重氧化氮化薄栅极氧化物的MOSFET对热载流子引起的GIDL的耐受性
机译:具有通过快速热处理制备的氮化氧化物栅极电介质的MOSFET中的热载流子效应
机译:通过远程等离子体增强CVD和沉积后快速热退火制备的具有氮化的Si-SiO / sub 2 /界面的超薄氮化硅/氧化物堆叠栅极电介质的PMOSFET的性能和可靠性
机译:通过快速热处理形成氮栅极氧化物,用于4H-SiC MOSFET
机译:通过隧道外延,使用氮化的热氧化物作为栅绝缘体,开发自对准双栅MOSFET的工艺流程。
机译:通过快速热处理制备用于太阳能转化的氧化铁膜
机译:使用氧化亚氮(N2O)中生长的栅极氧化物增强4H-siC mOsFET中的反转沟道迁移率