SMARTMOS Technology Center, DigitalDNA Laboratory, Motorola SPS, 2200 West Broadway Road, M350, Mesa, AZ 85202, U.S.A;
机译:通过使用具有沉积的硅层的原子层来改善低温多晶硅薄膜晶体管的长期稳定性
机译:尾态联合密度法研究氢化非晶碳化硅薄膜的室温光致发光光谱及其在等离子体沉积氢化非晶碳化硅薄膜中的应用
机译:使用远程等离子体氧化技术在低温下形成超薄二氧化硅膜,并应用于栅极绝缘体
机译:使用四甲基硅烷沉积低温二氧化硅薄膜,用于应力控制和覆盖应用
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:低温阳极氧化硅薄膜的生长和腐蚀速率研究
机译:在低温下通过等离子体沉积的无定形,多晶态和微晶硅薄膜
机译:二氧化硅(siO2)薄膜低温水扩散的核示踪剂测量。