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黑鸿君; 于盛旺; 刘艳青; 丁明辉; 李义锋; 唐伟忠;
北京科技大学材料科学与工程学院;
太原理工大学表面工程研究所;
HCDCACVD; SiC过渡层; 金刚石涂层; 附着力;
机译:在具有不同氢/四甲基硅烷流量比的WC-Co基材上生长β-Sic中间层,以增强金刚石涂层的附着力
机译:四甲基硅烷流量对掺聚甲醛的硅掺杂类金刚石碳沉积和摩擦学行为的影响
机译:使用四甲基硅烷+ H_2的离子增强等离子体化学气相沉积法沉积SiC膜
机译:用四甲基硅烷制备无氯化学气相沉积的SICF / SiC
机译:研究硬质合金切削刀具刀片(硬质合金刀具,化学气相沉积)上化学气相沉积(CVD)金刚石涂层的附着力的机械和物理问题。
机译:三甲基硅烷(TMS)等离子涂层对义齿基料树脂的疏水性和白色念珠菌在树脂表面的附着力的影响
机译:使用硅烷和四甲基硅烷沉积在流化床中的颗粒上的碳化硅涂层:可行性研究
机译:使用硅烷和四甲基硅烷在流化床中沉积碳化硅涂层:可行性研究
机译:用于在低温带和低压带中在涂层基质的表面上沉积涂层膜的涂层的化学气相沉积Sic涂层方法
机译:生产二苯甲基-二烷基甲氧基硅烷,苯烷基-二烷基甲氧基硅烷,邻苯二甲基环四硅氧烷和SYM-四烷基环四苯甲基-环硅氧烷的生产工艺
机译:生产二苯酚-二烷基氧硅烷,苯烷基-二烷基氧硅烷,邻苯二甲基环四硅氧烷和 SYM i>-四烷基四苯甲基-环四硅氧烷的生产方法
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