Department of Innovative and Engineered Materials and Frontier Collaborative Research Center, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8502, JAPAN;
机译:基于KrF准分子激光沉积的共掺杂技术合成p型ZnO薄膜
机译:Al和N共掺杂法制备透明P型Zno薄膜及其特性
机译:Al-N共掺杂法在不同衬底温度下制备的P型Zno薄膜
机译:具有组合激光MBE方法的P型ZnO的共掺杂方法
机译:等离子体辅助MBE生长的ZnO及其相关化合物和量子阱结构。
机译:Ag / Al共掺杂方法对热壁脉冲激光沉积合成p型ZnO纳米线的影响
机译:Ag / Al共掺杂方法对热壁脉冲激光沉积合成p型ZnO纳米线的影响
机译:ZnO掺杂不对称问题:现状与展望。实现和实现p型ZnO的实验和理论努力的回顾,适用于蓝/紫外光谱范围的发光光电器件