Institut d'Electronique Fondamentale, UMR CNRS 8622, University Paris-Sud, 91405 Orsay, France;
rnInstitut d'Electronique Fondamentale, UMR CNRS 8622, University Paris-Sud, 91405 Orsay, France;
rnEquipe mixte CEA-CNRS Nanophysique et Semiconducteurs, DRFMC/SP2M/PSC, CEA-Grenoble, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble cedex 9, France;
III-nitride semiconductors; intersubband transitions; optoelectronic devices; electro-optical modulators; photodetectors; quantum wells; quantum dots;
机译:Si掺杂对电信波长下子带间光电的GaN / AlN多量子阱结构的影响
机译:用于GaN基光电器件的双AlGaN / GaN分布式布拉格反射器堆叠镜的设计与制造
机译:薄AllnN / GalnN量子阱的生长,可用于电信波长下的高速子带间设备
机译:适用于短波间子带器件的AlN / GaN / AlGaN耦合量子阱
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:Algan / GaN在没有GaN缓冲层的SIC器件上:电气和噪声特性
机译:设计应变平衡的GaN / alGaN量子阱结构:应用于1.3和1.55μm波长的子带间器件
机译:长波长量子点子带间光电器件。