Department of Information Engineering, University of Padova Via Gradenigo 6/B, 35131, Padova, Italy;
Aluminum gallium nitride; Current measurement; Gallium nitride; HEMTs; Logic gates; MODFETs; Transient analysis; GaN; HE MT; High-Voltage; current collapse; dynamic RinfON/inf; trapping;
机译:缩小尺寸的AlCaN(<6 nm)/ CaN异质结构中的界面电荷工程,用于制造基于GaN的功率HEMT和MIS-HEMT
机译:宽带隙GaN基HEMT功率器件中取决于高温操作的阈值电压稳定性的模型开发
机译:栅极绝缘技术技术与GaN的电力HEMTS栅极绝缘和表面钝化
机译:GaN基功率HEMTS中高压电荷捕获效应的表征
机译:基于GaN的设备中电荷诱捕的特征
机译:宽带隙GaN基HEMT功率器件中取决于高温操作的阈值电压稳定性的模型开发
机译:诱捕了GaN型功率HEMT的现象和降解机制