IBM Systems and Technology Group (USA);
Toppan Electronics (USA);
Toppan Printing (Japan);
photomask flatness; pellicle; pellicle adhesive; pellicle frame;
机译:领先地位技术光掩模上雾霾地层引起的表征及降低
机译:杜邦光掩模赢得Sematech的157 nm薄膜组件开发合同
机译:ASYMMETRICLEAVES2和真核NudC域蛋白的直系同源物抑制拟南芥ASYMMETRIC-LEAVES2直向同源叶的AUXIN-RESPONSE-FACTOR和1类KNOX同源盒基因的表达,而真核NudC域蛋白的直系同源物抑制AUXIN-PONSE的表达-FACTOR和1类KNOX同源盒基因在拟南芥ASYMMETRIC-LEAVES2中发育,而真核NudC结构域直系同源基因抑制AUXIN-RESPONSE-FACTOR和1类KNOX同源盒基因在拟南芥中形成平坦对称叶片的表达
机译:影响成品光掩模平整度的薄膜因子
机译:防护膜引起的薄膜变形的数值和实验分析。
机译:鲍曼不动杆菌在膜中的生长增强了潜在毒力因子的表达
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机译:QmC-17-a一些因素和特殊处理方面的报告,与提高对成品皮革防水性能的关系进行了研究