Fraunhofer Center for Nanoelectronic Technologies (Germany);
HamaTech APE GmbH Co. KG (Germany);
HamaTech APE GmbH Co. KG, Taiwan Branch Office (Taiwan);
Fraunhofer Center for Nanoelectronic Technologies, Koenigsbruecker Strasse 180, D-01099 Dresden, Ger;
机译:新的不透明MoSi二元掩膜空白的32纳米节点及更高的光刻资格
机译:新的不透明MoSi二元掩膜空白的32纳米节点及更高的光刻资格
机译:在45nm逻辑门掩模上基于模型的掩模验证
机译:设计优化的多区热销的资格45nm节点掩模制作
机译:具有U-Net分段掩模的综合数据增强可提高乳腺癌患者淋巴结转移的检测
机译:用于极大的望远镜的多区相移调料面罩的设计与制造
机译:具有mask-Lite(商标)的智能45nm铸造CmOs降低了掩模成本。