Complementary metal oxide semiconductors; Fabrication; Masks; Photomasking; 45nm; Bulk cmos; 1d layout; Grated layout; Mask-lite; Photomasks;
机译:PLDD / NHALO辅助的低触发SCR,用于铸造CMOS工艺中的耐高压ESD保护,无需额外的掩膜
机译:Pldd / nhalo辅助低触发Scr,用于铸造Cmos工艺中的耐高压Esd保护,无需额外的掩模
机译:在45nm逻辑门掩模上基于模型的掩模验证
机译:降低45nm CMOS技术中用于电平转换ADC的比较器延迟分散的新技术
机译:具有45nm CMOS SOI技术的具有32:1串行器的2位1Gsps ADC阵列
机译:在CMOS铸造厂制造的超高Q光机械晶体腔
机译:CMOS 45NM技术6T SRAM细胞写入噪声裕度估计。