Tokyo Polytechnic Univ., 1583 Iiyama Atsugi-shi, Kanagawa, 243-0297, Japan ORC manufacturing CO., LTD Tokyo Polytechnic Univ., HINODE FACTORY, 28-5 Hirai Hinode-Machi, Nishitama-Gun, Tokyo 190-0182, Japan;
Tokyo Polytechnic Univ., 1583 Iiyama Atsugi-shi, Kanagawa, 243-0297, Japan ORC manufacturing CO., LTD;
Tokyo Polytechnic Univ., 1583 Iiyama Atsugi-shi, Kanagawa, 243-0297, Japan ORC manufacturing CO., LTD;
optical lithography; depth of focus; resolution; phase-shifting mask; forbidden pitch; PSM; DMD;
机译:通过相移掩模对自组装单分子膜进行构图及其在纳米线大规模组装中的应用
机译:用于70纳米以下图案化的X射线相移掩模的研究
机译:使用禁止的螺距图案的衍射图像进行新型聚焦监控
机译:分析方程预测相移掩模的禁止图案间距
机译:使用前向掩蔽模式来预测人工耳蜗植入对象的语音中无法感知的信息。
机译:基于边缘相移场的高斯噪声相位误差的模糊商空间偏微分方程滤波方法
机译:用于极大的望远镜的多区相移调料面罩的设计与制造
机译:掩蔽场:用于学习,识别和预测多个图案化数据分组的大规模并行神经结构