NEC Electronics Corporation, 1120 Shimokuzawa, Sagamihara, Kanagawa 229-1198, Japan;
ArF; immersion lithography; immersion-specific effect; focus; overlay; scan-dynamic performance; soaking time; resist-profile uniformity;
机译:浸没式光刻中晶圆的热行为及其对覆盖性能的影响
机译:用于ArF浸没式光刻的光刻性能的全场分析
机译:ArF水浸式光刻技术的后续产品:EUV光刻技术,多电子束无掩模光刻技术还是纳米压印技术?
机译:沉浸效应光刻系统性能
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:溶剂浸渍压印光刻:高性能半自动程序
机译:用于193 nm浸没式光刻的非化学放大抗蚀剂:吸光度对性能的影响