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一种用于光刻机调焦系统性能评价的装置及方法

摘要

一种用于光刻机调焦系统性能评价的装置和方法,其特点是:装置的运动系统将粗动系统和精动系统分开设计,在满足水平X向和垂向大行程运动及垂向高精度定位的同时保证了装置拆装灵活性和扩展性,保证控制精度的同时减少控制的复杂程度,实现了垂向大行程高精度的精密运动控制,保证了被评价调焦系统的测量光斑可以在硅片上的任意位置,实现了检测灵活性,对调焦系统性能评价方法和流程简便,可在精动系统一个行程内将调焦的重复性和精度全部验证完毕,节省时间,代码实现简便,同时整套装置亦可用于其他系统垂向性能检测和评价。

著录项

  • 公开/公告号CN101261455B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN200810036207.9

  • 申请日2008-04-17

  • 分类号

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人屈蘅

  • 地址 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-04

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 9/00 变更前: 变更后: 申请日:20080417

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-06-02

    授权

    授权

  • 2010-06-02

    授权

    授权

  • 2008-10-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-09-10

    公开

    公开

  • 2008-09-10

    公开

    公开

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