9-inch size mask; High grade 9-inch size mask; New grade 9-inch size mask blanks; 450mm wafer process; Semiconductor lithography; 9-inch size glass; Glass substrate; Binary Cr mask;
机译:使用空白检查,图案化掩模检查和晶圆检查来评估极端紫外线掩模缺陷
机译:转向450mm晶圆工艺成为IC展览会的重点
机译:基于阴影掩膜和晶圆键合处理方法的分层组合的全有机微悬臂芯片的集体制造
机译:适用于450mm晶圆工艺的9英寸尺寸的新型掩模坯(2015)
机译:财务资源和技术过渡到450mm半导体晶圆代工厂
机译:通过使用自掩膜蚀刻技术在晶圆表面形成纳米级金字塔提高多晶硅晶圆太阳能电池效率
机译:基于阴影掩模和晶片键合处理方法的分层组合的集体制造全有机微电子芯片