TiO_2 thin films; RF magnetron sputtering; Argon flow rate; Optical Transmission;
机译:射频磁控溅射沉积Zn_(0.98)Cr_(0.02)O薄膜上氧与氩流量比的结构和光学性质
机译:衬底温度和氧气/氩气流量比对射频磁控溅射制备的掺杂Ga的ZnO薄膜的电和光学性能的影响
机译:衬底温度和氧/氩流量比对射频磁控溅射制备的GZO薄膜的电学和光学性能的影响
机译:氩流量对RF溅射沉积的TiO_2薄膜结构和光学性质的影响
机译:溅射沉积非晶非晶-thin薄膜的磁性和微观结构性质。
机译:射频磁控溅射沉积ZnS薄膜的结构和光学性质
机译:基板对磁控溅射制备TiO2薄膜结构,形貌和光学性质的影响