CuO; nanowires; reactive ion etching (RIE); field emission;
机译:O2和Ar反应离子刻蚀对取向CuO纳米线薄膜场发射特性的影响
机译:通过通过容纳反应磁控溅射掺入垂直取向的碳纳米线来增强氢化非晶碳膜的现场电子发射行为和机械性能
机译:垂直排列的锥形锥形的制造和现场 - 排放性能通过纳米光刻标记和无电催化蚀刻制备的垂直对准锥形[110] Si纳米线阵列
机译:O_2和AR反应离子蚀刻对对准CuO纳米线膜的场发射性能的影响
机译:通过用于冷场排放的反应离子蚀刻硅纳米尖阵的形状调谐
机译:氧辅助刻蚀生长法大规模合成纳米金字塔状VO2薄膜场发射特性显着增强
机译:垂直排列的锡掺杂氧化铟纳米线阵列:外延生长和电子场发射特性