二段ガス窒化処理における表面化合物層のN再分配過程の解析

摘要

本報告では二段ガス窒化法における表面化合物層（白層）の固体内拡散によるN再分配過程の解析を行う。二段ガス窒化法はガス窒化法を改良した手法で二段目を高温、低窒化ポテンシャルにすることにより窒化層厚さを効率的に増すために行われる。一段処理のガス窒化法に比べ時間短縮や、最表面に形成するε（Fe_(2-3)N）とγ’(Fe_4N)）相による脆性化合物層厚さを低減するなどの効果がある。