二段ガス窒化処理の第二段過程における窒素再分配と化合物層厚さ

摘要

本研究では二段ガス窒化処理の第二段過程における窒素（N）再分配過程を議論する。化合物層厚さを予測するモデルを構築し各パラメーターの影響を評価する。二段ガス窒化は二段目の高温，低量化ポテンシャル処理により窒化層の硬さ分布を平坦にするとともに窒化層厚さを増すことを主な目的として行われる処理である。化合物層消失．処理時間短絡　アンモニア消費量低減などが可能であるが，第二段過程における化合物層厚さの挙動を記述するモデルは今日まで報告されていなし㌔これから化合物層から母相にNが固体内拡散により再分配する過程を解析するとともに既報の実験結果との比較検討を含めた考察を行った。