机译:第一InSb层的沉积条件对通过InSb双层两步生长法生长的n型InSb薄膜电性能的影响
机译:低温氯碳生长法生长的高纯度外延层的电学和光学性质
机译:通过在室温下对通过射频磁控溅射法生长的层进行热退火而获得的V2O5薄膜的电传输性能
机译:LPCVD法在铜膜上生长石墨烯层数对铜膜数量和电性能的影响
机译:通过脉冲激光烧蚀生长的超导钇钡(2)铜(3)氧(7-x)薄膜的生长机理和电传输性质。
机译:生长温度对使用CpZr N(CH3)2 3 / C7H8鸡尾酒前体原子层沉积制备的ZrO2薄膜的结构和电性能的影响
机译:第一Insb层沉积条件对两步生长法制备的n型Insb薄膜电性能的影响Insb双层膜