SU-8; UV photolithography; low-cos microfabrication; MEMS;
机译:低成本激光可打印光掩模:一步式,无光阻剂,完全溶液处理的高级光刻掩模
机译:基于铁的纸质微流体分析设备的开发,该设备使用3D打印机打印的光掩模通过光刻在纸上制造亲水和疏水区域
机译:用液晶掩模代替光掩模开发印刷电路板的光刻工艺
机译:使用激光打印机获得用于光刻过程的光掩模
机译:激光诱导氧化锌合金薄膜,用于直接写入灰度光掩模
机译:使用软光掩模在亚微米级进行接触光刻
机译:1 CD的变化校正,采用基于激光的新型工艺对光掩模进行局部透射控制