Displacement Talbot lithography; high aspect ratio; silicon etching; Bosch process; x-ray interferometry;
机译:使用近场扫描光学光刻和硅各向异性湿法刻蚀工艺制备高纵横比的硅纳米结构
机译:用于制备均匀高纵横比光栅的位移Talbot光刻的优化
机译:球形光刻和金属辅助化学刻蚀制备高深宽比硅纳米结构及其润湿性
机译:通过位移Talbot光刻和Bosch蚀刻获得高纵横比的硅结构
机译:使用六氟化硫/氧等离子体在硅中蚀刻高深宽比结构。
机译:通过深反应离子蚀刻制造高纵横比硅光栅
机译:MultiSep等离子蚀刻和角光刻高纵横比结构的晶圆级3D整形