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Fabrication of Hollow Microneedle Arrays Based on Special X-Ray Exposure

机译：基于特殊X射线曝光的空心微针阵列的制造

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Two methods for fabricating hollow micro needle arrays have been described. One method is that fabricating hollow micro needle array based on double X-ray exposures-----one exposure is normal X-ray exposure with X-ray mask and the other is X-ray exposure without X-ray mask. The other method is based on moving mask X-ray exposures plus an alignment X-ray exposure. The feasibilities for the hollow micro needle arrays were demonstrated by fabricating 25 micro needles in a 5x5 mm2 polymer chip.

机译：已经描述了制造中空微针阵列的两种方法。一种方法是，基于双X射线曝光制造中空微针阵列-----一个曝光是X射线掩模的正常X射线暴露，另一个是没有X射线掩模的X射线曝光。另一种方法基于移动掩模X射线暴露加上对准X射线曝光。通过在5×5mm 2聚合物芯片中制造25微针来证明中空微针阵列的可行性。

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来源
《ICNPE 2012》|2013年||共4页
会议地点
作者
Yigui LI; Susumu SUGIYAMA;
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作者单位

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种
中图分类 71.8083;
关键词
Hollow Micro needle Array; X-ray exposure; Alignment;

机译：空心微针阵列;X射线暴露;对齐;

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