机译:尾态联合密度法研究氢化非晶碳化硅薄膜的室温光致发光光谱及其在等离子体沉积氢化非晶碳化硅薄膜中的应用
机译:用光混合技术研究沉积条件对本征氢化非晶硅和氢化非晶碳化硅薄膜传输性能的影响
机译:多相结构富碳氢化非晶碳化硅薄膜的蓝绿色发光和SERS研究
机译:相对低氢气稀释对富含碳氢化非晶碳化硅膜性能的影响
机译:PECVD氢化非晶硅膜和HWCVD氢化非晶硅膜的质子NMR研究。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:氢化非晶碳化硅膜的性质和装置应用
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<辉光放电分解制备离子镀和氢化非晶硼薄膜制备氢化非晶硅薄膜及其表征>>相似的文献。最终报告,1980年4月1日至1981年5月31日