氢化非晶碳及碳化硅薄膜结构和光学特性研究

目录

声明

1绪论

1.1研究背景

1.2 a-C:H薄膜的研究现状

1.3 a-SiCx:H薄膜的研究现状

1.4 研究内容及技术路线

2.1 原料和基片的准备

2.2 a-C:H和a-SiCx:H薄膜的制备

2.3.1扫描电子显微镜(SEM)

2.3.2傅立叶变换红外光谱(FTIR)

2.3.3拉曼光谱(Raman)

2.3.4 X射线光电子能谱(XPS)

2.3.5紫外-可见光谱(UV-Vis)

2.3.6光致发光光谱(PL)

3射频功率对a-C:H薄膜结构和光学性能影响

3.1基于SEM、XPS和FTIR研究薄膜结构特征

3.2基于UV-Vis和PL光谱研究薄膜的光学特性

3.3 本章小节

4硅烷流量对a-SiCx:H薄膜结构和光学性能影响

4.1基于FTIR、XPS、TEM研究薄膜结构特征

4.2基于UV-Vis和PL光谱研究薄膜光学特性

4.3 本章小节

5基于温度对嵌有碳纳米团簇的a-SiCx:H薄膜的研究

5.1温度对a-SiCx:H薄膜结构影响

5.2温度对a-SiCx:H薄膜中碳纳米团簇的影响

5.3本章小结

6射频功率对a-SiCx:H薄膜结构和光学性能研究

6.1射频功率对a-SiCx:H薄膜结构的影响

6.2 射频功率对a-SiCx:H薄膜光学性能影响

6.3本章小结

7 总结与展望

7.1 全文研究内容总结

7.2本文创新点

7.3 工作展望

参考文献

附录

致谢