EUVL into production - Update on ASML's NXE platform - (PPT)

机译：EUVL进入生产 - 在ASML的NXE平台上更新 - （PPT）

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NXE platform design in place. Optics and source delivered to ASML and integrated. Modules like wafer-/reticle stage, reticle-/wafer handler, reticle masking, alignment-/level sensors build and functionally integrated. System top/mid/bottom build and integration ongoing. NXE:3100 system in build phase. 1st shipment NXE3100 mid 2010. Second generation with high NA optics planned for 1st half 2012.

机译：NXE平台设计到位。光学和源传递给ASML并集成。模块如晶片/掩模版阶段，掩模版/晶片处理程序，掩模版屏蔽，对准/液位传感器构建和功能集成。系统顶部/中/底部构建和集成正在进行中。 NXE：建设阶段3100系统。第一发货NXE3100 2010年中期。第二代具有高NA光学计划的2012年。

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来源
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》|2011年||共22页
会议地点
作者
Judon Stoeldraijer; David Ockwell; Christian Wagner;
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作者单位

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原文格式 PDF
正文语种
中图分类 TN305.7-53;
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