Yb ion implantation; Projected range; Range straggling; Rutherford backscattering technique;
机译:研究重离子注入碳化硅中远超出预期范围的非晶化能
机译:硼在硅中注入的B和Bf_2离子投射范围附近的扩散
机译:切克劳斯基硅片中碳团离子注入投影范围内氢的俘获和扩散动力学
机译:硅晶体植入的Yb离子的平均投影范围和范围磨损
机译:低能粒子和μ子的多次散射,距离和距离跨度的测量。
机译:硅纳米晶体:阳离子胶体纳米晶体具有胶体稳定性pH无关的正表面电荷和尺寸可调的近红外至红色光谱范围内的光致发光(Adv。Sci。2/2016)
机译:Cu在平均投影离子范围内的离子植入和退火硅中的旋转和退火硅
机译:对于能量<或= 10keV的电子,反平均自由程,停止功率,CsDa范围以及硅和二氧化硅中的混乱。