Post etch residues; Selective cleaning; High K; HfO_x; ZrO_x; TaO_x; Aluminum; TaN; Interconnection; Cap MIM; Selective amorphous oxide removal;
机译:一步湿法清洁去除蚀刻后的含氟聚合物残留物
机译:蚀刻清洁延迟时间对前端应用中蚀刻后残留物去除的影响
机译:蚀刻后清洗液中铜和钴的电化学行为
机译:定制的化学成分,适用于清洗几乎所有蚀刻后的残留物
机译:使用自由基阴离子化学去除碳氟化合物蚀刻后残留物。
机译:苏打渣及其化学组成对苏打渣渣胶凝材料物理性能和水合产物的影响
机译:蚀刻后退火气体成分对超级电容器应用Ti2CTx MXene电极的结构和电化学性能的影响
机译:来自各种陨石的酸残留物中的化学和同位素组成