Unbalanced magnetron sputtering; MF twin targets; Ion beam assisted; Hall ion source; Ti-N-C films; Crystal structure;
机译:MF不平衡磁控溅射技术沉积TiN膜的制备及性能研究
机译:通过不平衡磁控溅射法沉积的氧化铋薄膜的特征。
机译:镍和铝元素靶的封闭场不平衡磁控溅射离子镀沉积NiAl和N掺杂NiAl膜的生长和表征
机译:离子束辅助中频双靶不平衡磁控溅射沉积Ti-N-C薄膜
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:离子轰击和衬底取向对不平衡磁控溅射沉积氮化钛膜结构和性能的影响