プラズマを利用した真空蒸着法により作製したポリテトラフルオロエチレン（PTFE）薄膜

摘要

プラズマを利用した真空蒸着（イオンプレーティング）法は薄膜作成法の1つであり，それにより成膜される薄膜は真空蒸着法で成膜した薄膜より基板との高い密着性をもつことが特徴である．さらに，成膜中にガスを投入することによりプラズマ中で成膜材料とガスが反応し，化合物膜を基板に成膜することが可能である．本研究ではポリテトラフルオロエチレン貯m）を用いた薄膜形成を行った．PTFEには，耐熱性電気絶縁性，耐薬品性に優れ，各分野で応用されている，しかし，PTFEは基板との密着力が弱く，剥がれやすい．本研究では，PTFE薄膜の密着力向上を目的としプラズマを利用した真空蒸着法により，導入ガスの種類，投入電力が薄膜構造に与える影響について調べた。