masks; sub-100 nm process; integrated simulation; device impact;
机译:MacEtch使用非光刻InAs纳米线掩模形成100 nm以下的Si纳米线和纳米片阵列
机译:氧化物硬掩模对100 nm以下Si和SiGe栅极轮廓的影响
机译:使用近场掩模光刻技术和超薄抗蚀剂工艺制造亚100 nm图案
机译:100纳米以下的掩模成本:阻止失控?
机译:表征低于100 nm技术中影响单事件瞬变的机制。
机译:钙钛矿薄膜的回收:迈向经济高效的道路和环保的钙钛矿技术
机译:通过双光子聚合制造具有小于100nm特征尺寸的三维微结构的材料和技术
机译:具有mask-Lite(商标)的智能45nm铸造CmOs降低了掩模成本。