大面積パターン転写を目的としたローラナノインプリントプロセスの開発（装置構成と基本転写性能）

摘要

大面積パターン転写を目的としたローラナノインプリントプロセスを開発し、装置を試作して基本転写性能を確認した。従来の一括転写方式では数10kN 以上必要であった100mm 角のパターン転写が1kN 以下の低加重で良好に行えることが確認できた。また、熱収縮によるパターン劣化を防ぐモールド自動離型機構を組み込hだことにより、大面積転写が精度良く行える。