磁場に反応する機能性流体を用いた新しいポリッシングに関する開発研究第2報：MCF 研磨の展開と応用例

机译：响应磁场函数流体新抛光的发育研究。第二次报告：MCF抛光的部署与应用

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第一報では，著者の一人によって開発された，新しい磁場に反応する機能性流体である，MF とMRF のそれぞれの特性の中間に位置する磁気混合流体(Magnetic compound fluid，略称MCF)を研磨液に利用し，新しいフロートポリッシングについて報告した．本研究では，このMCF を使った新しいMFP，磁気浮揚研磨(Magnetic float polishing)の研磨適用応用例について報告する．

机译：在第一报告中，位于MF和MRF的每个特征的中间的磁性混合流体（磁性化合物流体，缩写MCF），其是由作者的一个开发的新磁场的官能流体。我们使用过用于新浮法抛光的新浮法抛光。在本研究中，我们使用该MCF报告新MFP，磁浮法抛光的抛光应用应用。

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来源
《精密工学会学術講演会》|2006年||共2页
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作者
島田邦雄; 松尾良夫; 山本慶太; 花村玲; 中村輝久;
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中图分类 TG5-53;
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