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吴敏; 王正才; 陆樟献; 陈善飞;
宁波职业技术学院,宁波315800;
浙江万里学院应用物理研究所,宁波315101;
磁性抛光液; 光整加工; 表面粗糙度; 抛光时间;
机译:使用简单的混合磁性抛光材料进行磁性工件材料的磁性抛光-R槽内表面局部抛光方法及其抛光特性的建议
机译:磁性抛光材料磁性型缩小磁力抛光 - 振动式偏抛光方法提案及抛光特性
机译:磁性抛光法对氮化硅陶瓷零件内表面进行机械化学抛光的研究:高效干法加工方法的发展及其抛光特性
机译:工件振动抛光磁性工件抛光各种槽平面的振动磁性抛光抛光特性
机译:研究氮化硅球的磁性浮法抛光(MFP)中的隐藏抛光参数。
机译:空气抛光对复合牙科修复材料表面粗糙度的影响–三种不同的空气抛光粉的比较
机译:复杂自由形状阀杆抛光抛光抛光抛光能力的仿真与实验研究
机译:计算机控制光学抛光过程中抛光参数的优化
机译:抛光液体供应设备以抛光抛光垫和抛光液体供应方法以抛光抛光垫
机译:抛光液,抛光液体制造方法,抛光液体储备溶液,抛光液体储备容器,化学机械抛光方法
机译:用于平坦化半导体,光学和磁性基板的化学机械抛光垫,包括具有顶部抛光表面的聚合物基体,该顶部抛光表面包括聚合物抛光粗糙体/形成聚合物抛光粗糙体
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