Glancing angle deposition; magnetron sputtering; Refractive index;
机译:氧和氢分压对反应性射频磁控溅射沉积ITO膜的结构和光学性能的影响
机译:掠射角射频磁控溅射沉积垂直排列的Pd / WO_3纳米棒薄膜的光学H_2感测特性
机译:氧分压对反应性直流磁控溅射沉积NiO_x薄膜光学性能的影响
机译:通过磁控溅射沉积的透明角沉积的氧气部分压力依赖性光学性能(高兴)Ta_2O_5薄膜
机译:通过掠角沉积沉积的喹啉金属螯合物薄膜的光学和结构性质。
机译:N2分压对液靶反应磁控溅射外延沉积GaN纳米棒生长结构和光学性能的影响
机译:直流反应磁控溅射沉积的TiO2薄膜的氧分压依赖性