机译:二氧化碳中的水微乳液,用于去除图案化多孔低k电介质中的蚀刻后残留物
机译:多重内反射红外光谱法评估等离子体对低k介电沟槽结构的损伤
机译:使用紫外线照射和臭氧水去除多孔低k介电图案中的蚀刻后193 nm光刻胶
机译:利用多重内反射红外光谱表征多孔低介电常数介电层上蚀刻后的残留
机译:用于高级互连的多孔低k电介质的机械可靠性:多孔低k电介质的不稳定性机理及其通过惰性等离子体引发的骨架结构再聚合的介导研究。
机译:用于微和纳米电子应用的低k介电薄膜的热稳定性的宽带介电光谱表征
机译:ACL硬掩模后蚀刻条带中TMCTS的SIOC(H)低k电介质的表面分析