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International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology
International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology
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1.
Drying Performance of Single IPA Dryer to Prevent Pattern Collapse and Watermark
机译:
单款IPA烘干机的干燥性能,防止图案折叠和水印
作者:
Daehong Eom
;
Kyunghyun Kim
;
Yugyun Shin
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
2.
Processing and Characterization of GaSb/High-k Dielectric Interfaces
机译:
加工和表征气体/高k电介质界面
作者:
E. Hwang
;
C. Eaton
;
S. Mujumdar
;
H. Madan
;
A. Ali
;
D. Bhatia
;
S. Datta
;
J. Ruzyllo
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
3.
Interactions between Developable Bottom Anti Reflective Materials and Surface Preparations
机译:
可开发底部抗反射材料与表面制剂之间的相互作用
作者:
P. Garnier
;
G. Briend
;
D. Jeanjean
;
L. Babaud
;
M. May
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
4.
Metal Electrode Contact Cleaning in Small Dimension Phase Change Memory
机译:
金属电极接触清洁小维度相变内存
作者:
JinHye Bae
;
WonJun Lee
;
DaeHyuk Chung
;
InSeak Hwang
;
DongHo Ahn
;
SeokWoo Nam
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
5.
Design, Fabrication, and Performance Test of a Quartz Horn Megasonic Waveguide for Semiconductor Cleaning
机译:
用于半导体清洁的石英喇叭兆声道波导的设计,制造和性能测试
作者:
Hyunse Kim
;
Yanglae Lee
;
Euisu Lim
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
6.
Deoxification of Liquids for Advanced Semiconductors Processing
机译:
用于先进半导体加工的液体排毒
作者:
C. Gottschalk
;
U. Brammer
;
Y. Le Tiec
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
7.
Dry Strip Removal of Si-Containing Anti-Reflective Coating Photo Resist Stacks
机译:
干燥带材去除含Si抗反射涂层光抗蚀堆
作者:
D. Mattson
;
J. Deluca
;
S. Luo
;
J. Tracy
;
D. Roh
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
8.
Characterization of Post Etch Residues on Patterned Porous Low-k Dielectric Using Multiple Internal Reflection Infrared Spectroscopy
机译:
使用多个内部反射红外光谱法在图案化多孔低k电介质上的蚀刻残留物的表征
作者:
Sirish Rimal
;
Nick Ross
;
Karthikeyan S. M. Pillai
;
Kanwal Jit Singh
;
Oliver Chyan
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
9.
Effect of Acoustic Cavitation on Dissolved Gases and Their Characterization During Megasonic Cleaning
机译:
声学空化对溶解气的影响及其表征在兆声清洗过程中
作者:
Bong-Kyun Kang
;
Min-Su Kim
;
Seung-Ho Lee
;
Hong-Seong Sohn
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
10.
Challenges of Wafer Surface Preparation in Advanced Technologies
机译:
晶圆表面准备在先进技术中的挑战
作者:
Scott Ku
;
Matt Yeh
;
K. B. Huang
;
C. M. Yang
;
C. C. Chen
;
J. P. Chuang
;
S. M. Jang
;
David Huang
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
11.
Processing of Mechanically Polished Surfaces of Bulk GaN Substrates
机译:
散装GaN基材机械抛光表面的加工
作者:
G. Nowak
;
G. Kamler
;
J. L. Weyher
;
I. Grzegory
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
12.
Improving Megasonic Exposure Uniformity for EUV Mask Substrate Cleaning
机译:
改善EUV掩模基板清洁的巨型曝光均匀性
作者:
Matthew House
;
Abbas Rastegar
;
Don Dussault
;
Eric Liebscher
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
13.
Cleaning Challenges and Solutions for Advanced Technology Nodes
机译:
用于高级技术节点的清洁挑战和解决方案
作者:
P. W. Mertens
;
R. Vos
;
W. Masayuki
;
S. Arnauts
;
H. Takahashi
;
D. Tsvetanova
;
D. Cuypers
;
S. Sioncke
;
N. Valckx
;
S. Brems
;
M. Hauptmann
;
M. Heyns
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
14.
Investigation of Galvanic Corrosion Characteristics between Tantalum Nitride and Poly Silicon in Dilute HF Solutions
机译:
稀氢溶液中氮化钽和聚硅之间电流腐蚀特性的研究
作者:
R. Govindarajan
;
M. Keswani
;
S. Raghavan
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
15.
High-Speed Droplet Impact as an Elementary Process of Physical Cleaning
机译:
高速液滴冲击作为物理清洁的基本过程
作者:
T. Fujikawa
;
Y. Tatekura
;
K. Kobayashi
;
T. Sanada
;
A. Hayashida
;
M. Watanabe
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
16.
Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) Analysis of BTA Removal by TMAH during Post Cu CMP Cleaning Process
机译:
TMAH在CU CMP清洗过程中,电化学阻抗光谱(EIS)分析TMAH的分析
作者:
R. Prasanna Venkatesh
;
Hyuk-Min Kim
;
S. Ramanathan
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
17.
Effects of Varying Surface Film Thickness on Particle Adhesion in Semiconductor Material-Based Systems
机译:
不同表面膜厚度对基于半导体材料系统中颗粒粘附的影响
作者:
K. M. Smith
;
J. W. Butterbaugh
;
S. P. Beaudoin
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
18.
Galvanic Corrosion of PN Junctions during the Dielectric Removal with HF for RMG Transistors
机译:
用于RMG晶体管的介电除去PN结的电流腐蚀
作者:
Antoine Pacco
;
F. Sebaai
;
S. Suhard
;
H. Struyf
;
S. De Gendt
;
R. Vos
;
A. Veloso
;
P. W. Mertens
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
19.
Nano Gas Cluster Dry Cleaning for Damage Free Particle Removal
机译:
纳米气体簇干洗损坏免颗粒去除
作者:
Min-Su Kim
;
Bong-Kyun Kang
;
Seung-Ho Lee
;
Deok-Joo Yoon
;
Hoo-Mi Choi
;
Ho-Joong Kim
;
Tae-Sung Kim
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
20.
Observation of Removal Process of Thin Metal Film on Glass Surface by Steam-Water Mixed Spray: Application to Au Film Removal in LED Manufacturing
机译:
蒸汽 - 水混合喷雾玻璃表面薄金属薄膜去除过程的观察:应用于LED制造中的Au薄膜去除
作者:
T. Sanada
;
K. Hashimoto
;
A. Hayashida
;
M. Watanabe
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
21.
PR and BARC Wet Strip in BEOL Patterning Using a UV-Enabled Aqueous Process
机译:
PR和BARC湿带在BEOL Patterning使用UV的水平过程
作者:
E. Kesters
;
Q. T. Le
;
M. Lux
;
G. Vereecke
;
H. Struyf
;
S. De Gendt
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
22.
Surface Contamination Removal from Si PV Substrates Using a Biodegradable Chelating Agent and Detection of Cleaning Endpoints Using UV/VIS Spectroscopy
机译:
使用可生物降解的螯合剂从Si PV基材中除去表面污染,并使用UV / Vis光谱检测清洁终点
作者:
Mark George
;
Helmuth Treichel
;
David Bohling
;
Avery Goldstein
;
Herbert Litvak
;
Sara Ostrowski
;
Ian Mowat
;
Werner Kern
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
23.
Optimization of DIO_3 with Megasonic Cleaning of Ru Capped EUVL Mask for Effective Carbon Contaminant Removal
机译:
用ru升压ru覆盖EUVL掩模的DIO_3优化,用于有效碳污染物去除
作者:
Seung-ho Lee
;
Bong-kyun Kang
;
Min-su Kim
;
Jung-soo Lim
;
Ji-hyun Jeong
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
24.
Investigation on the Drying Dynamics of Millimetric Water Droplets: Source of Watermarks on Silicon Wafers
机译:
毫米水滴干燥动力学研究:硅晶圆下的水印源
作者:
N. Belmiloud
;
A. H. Tamaddon
;
P. W. Mertens
;
X. Xu
;
H. Struyf
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
25.
Water Motion over a Wafer Surface Rotating in a Single-Wafer Wet Cleaner
机译:
在单晶片湿式清洁器中旋转的晶片表面上的水运动
作者:
Hitoshi Habuka
;
Shintaro Ohashi
;
Taka-Aki Tsuchimochi
;
Tetsuo Kinoshita
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
26.
Analysis on Threshold Energy of Particle Removal in Spray Cleaning Technology
机译:
喷涂清洁技术颗粒移除阈值分析
作者:
M. Sato
;
K. Sotoku
;
K. Yamaguchi
;
T. Tanaka
;
M. Kobayashi
;
S. Nadahara
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
27.
SiGe Alloys Sensitivity to Frond-End Surface Preparations
机译:
SiGe合金对前端表面制剂的敏感性
作者:
G. Briend
;
P. Garnier
;
D. Jeanjean
;
N. Breil
;
O. Gourhant
;
D. Dutartre
;
D. Pellissier-Tanon
;
Y. Campidelli
;
G. Bidal
;
D. Levy
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
28.
Integrated Experimental and Numerical Study of Thermomechanical Resist Removal-Cleaning Performance Using Cryogenic Micro-Solid Nitrogen Spray
机译:
使用低温微实氮喷雾剂热机械抗蚀剂去除清洗性能的集成实验性和数值研究
作者:
J. Ishimoto
;
D. Tan
;
U. Oh
;
T. Kubota
;
S. Samukawa
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
29.
Wet Cleaning and Surface Preparation for Ge
机译:
GE的湿式清洁和表面准备
作者:
H. Takahashi
;
M. Wada
;
J. Snow
;
R. Vos
;
P. W. Mertens
;
H. Shirakawa
;
S. Nadahara
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
30.
Optimization of CO_2 Gas Cluster Generation for Cleaning Application
机译:
优化Co_2气体簇生清洁应用
作者:
Hoomi Choi
;
Hojoong Kim
;
D. J. Yoon
;
J. W. Lee
;
B. K. Kang
;
M. S. Kim
;
J. G. Park
;
Taesung Kim
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
31.
Cleaning Challenges of EUV Mask Substrates, Blanks, and Patterned Mask
机译:
清洁EUV掩模基板,空白和图案面膜的挑战
作者:
A. Rastegar
;
Matthew House
;
Arun John Kadaksham
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
32.
Formation of Pyramidal Etch Pits Induced by Metallic Particles on Ge(100) Surfaces in Water
机译:
在水中葛(100)表面上金属颗粒诱导的金字塔蚀刻坑
作者:
Kenta Arima
;
Tatsuya Kawase
;
Keisuke Nishitani
;
Atsushi Mura
;
Kentaro Kawai
;
Junichi Uchikoshi
;
Mizuho Morita
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
33.
Characterization of Semiconductor Surfaces During Surface Conditioning and Functionalization
机译:
表面调理和官能化半导体表面的表征
作者:
Yves J. Chabal
;
Oliver Seitz
;
Damien Aureau
;
Peter Thissen
;
Tatiana Peixoto
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
34.
Plasma Strip of Cold Implant Photoresist
机译:
凝血剂光致抗蚀剂的等离子体条
作者:
Shijian Luo
;
Carlo Waldfried
;
Ivan Berry
;
Dwight Roh
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
35.
A New Cleaning Technology Using the Effect of Freezing Water on Wafer Surface
机译:
一种新的清洁技术,使用冻水对晶片表面的影响
作者:
Katsuhiko Miya
;
Naozumi Fujiwara
;
Masahiko Kato
;
Akira Izumi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
36.
Determining the Fundamental Kinetic Parameters for Rinsing and Cleaning of Hafnium-Based High-k Materials
机译:
确定基于铪的高钾材料漂洗和清洗的基本动力学参数
作者:
Davoud Zamani
;
Manish Keswani
;
Jun Yan
;
Srini Raghavan
;
Farhang Shadman
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
37.
Effect of Pump Pulsation on Particle Contamination on Wafer Surface in Wet Cleaning System
机译:
泵脉动对湿式清洗系统晶片表面粒子污染的影响
作者:
Jung-Soo Lim
;
R. Prasanna Venkatesh
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
38.
Silicon Nano-Pillar Test Structures for Quantitative Evaluation of Wafer Drying Induced Pattern Collapse
机译:
硅纳米柱试验结构,用于晶圆干燥诱导图案塌陷的定量评价
作者:
I. Vos
;
D. Hellin
;
J. Vertommen
;
M. Demand
;
W. Boullart
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
39.
Lattice Boltzmann Simulation of Cavitation and Particle Behavior Induced by Sonication Transducer
机译:
超声换能器诱导的空化和粒子行为的格子Boltzmann模拟
作者:
Hojoong Kim
;
Taesung Kim
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
40.
Development of a Wet Silicon Removal Process for Replacement Metal Gate and Sacrificial Fin
机译:
更换金属闸门和牺牲片的湿硅去除过程的开发
作者:
Samuel Suhard
;
Farid Sebaai
;
Antoine Pacco
;
Anabela Veloso
;
Laureen Carbonell
;
Martine Claes
;
Herbert Struyf
;
Paul Mertens
;
Stefan De Gendt
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
41.
Effect of Dissolved CO_2 in De-ionized Water in Reducing Wafer Damage During Megasonic Cleaning in MegPie
机译:
溶解CO_2在梅加尔省摩尔松清洗期间减少晶圆损伤中的溶解CO_2
作者:
S. Kumari
;
M. Keswani
;
S. Singh
;
M. Beck
;
E. Liebscher
;
L. Q. Toan
;
S. Raghavan
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2011年
42.
Study of Copper Surface Preparation by Sequential Atomic Layer Wet Etching and Laser Annealing Treatments
机译:
序贯原子层湿法蚀刻和激光退火处理研究铜表面制备研究
作者:
Akihisa Iwasaki
;
Yuya Akanishi
;
Fulvio Mazzamuto
;
Els Kesters
;
Quoc Toan Le
;
Frank Holsteyns
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
43.
Study of Mass Transport for Efficient Fluid Processing
机译:
高效流体加工的大规模运输研究
作者:
P. W. Mertens
;
M. Haslinger
;
M. Soha
;
J. John
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
44.
Deep Trenches Cleanliness Challenges for CMOS Image Sensors
机译:
深度沟槽CMOS图像传感器的清洁挑战
作者:
P. Garnier
;
F. Dignat
;
C. De Buttet
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
45.
Nearly Anhydrous Undissociated HF for the Removal of Hf/Ta/Zr Based Polymers After Plasma Etch, Selectively to Aluminum
机译:
几乎无水未加入的HF,用于在等离子体蚀刻后除去基于HF / TA / Zr基的聚合物,选择性地涂铝
作者:
M. Cazes
;
L. Broussous
;
P. Garnier
;
C. Pizzetti
;
L. Gabette
;
P. Besson
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
46.
Stability of SiGe(100) Surfaces After Ammonium Sulfide Passivation
机译:
硫化铵钝化后SiGe(100)表面的稳定性
作者:
S. L. Heslop
;
L. Peckler
;
A. J. Muscat
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
47.
The Impact Of Dummy Gate Processing On Si-Cap-Free SiGe Passivation: A Physical Characterization Study On Strained SiGe 25 And 45
机译:
伪栅极加工对无Si帽SiGe钝化的影响:应变SiGe 25%和45%的物理特征研究
作者:
K. Wostyn
;
L. A. Ragnarsson
;
T. Schram
;
L. Witters
;
T. Conard
;
B. Douhard
;
D. Vanhaeren
;
F. Holsteyns
;
W. Vandervorst
;
N. Horiguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
48.
Reactivity of Water Vapor with Ultrathin GeO_2/Ge and SiO_2/Si Structures Investigated by Near-Ambient-Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy
机译:
通过近环境压力X射线光电子能谱研究了具有超薄Geo_2 / Ge和SiO_2 / Si结构的水蒸气的反应性
作者:
K. Arima
;
T. Hosoi
;
H. Watanabe
;
E. J. Crumlin
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
49.
Study of SiGe Surface Cleaning
机译:
SiGe表面清洁研究
作者:
K. Komori
;
K. Wostyn
;
D. Rondas
;
J. L. Prado
;
T. Conard
;
R. Loo
;
L. A. Ragnarsson
;
N. Horiguchi
;
F. Holsteyns
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
50.
Nickel Contamination from Caustic Etching of Silicon Wafers
机译:
硅晶片的腐蚀性蚀刻镍污染
作者:
Drew Sinha
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
51.
Room Temperature Photoluminescence Characterization of Silicon Wafers for In-Line Monitoring Applications
机译:
硅晶片的室温光致发光,用于在线监测应用
作者:
Woo Sik Yoo
;
Toshikazu Ishigaki
;
Kitaek Kang
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
52.
Post Cleaning for FEOL CMP with Silica and Ceria Slurries
机译:
用二氧化硅和二氧化碳浆料清洁Feol CMP
作者:
Wei-Tsu Tseng
;
Amarnath Jha
;
Derek Stoll
;
Changhong Wu
;
Tim McCormack
;
Ji Chul Yang
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
53.
Modification of DHF for Removal of Metals from Silicon Wafer
机译:
用于从硅晶片中除去金属的DHF的改性
作者:
Dong-Hwan Lee
;
Hee-Jin Song
;
Sung-Hae Jang
;
Hyun-Tae Kim
;
Jae-Hwan Yi
;
Eunsuck Choi
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
54.
A Novel Cleaning Approach to Remove the Carbon Contaminant from Ru Surface of EUV Mask
机译:
一种新的清洁方法,用于从Ru表面的uuv面膜中除去碳污染物
作者:
M. S. Kim
;
H. J. Song
;
H. T. Kim
;
J. G. Park
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
55.
Speciation During Wet Etching of III-V Semiconductors
机译:
III-V半导体的湿法蚀刻过程中的形态
作者:
A. Hinckley
;
E. Foster
;
T. Corley
;
A. J. Muscat
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
56.
Solid Phase Clean: Improving Performance for Smaller Particle Removal without Pattern Damage and Film Loss
机译:
固相清洁:提高较小颗粒去除性能而无需图案损坏和薄膜损失
作者:
Meitoku Aibara
;
Kenji Sekiguchi
;
Miyako Kaneko
;
Derek W. Bassett
;
Itaru Kanno
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
57.
Surface Treatment Method and Its Metrology for Preventing Pattern Collapse
机译:
防止图案塌陷的表面处理方法及其计量
作者:
Chuannan Bai
;
Jingjing Wang
;
Eugene Shalyt
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
58.
Reduced Anisotropy in Tetramethylammonium Hydroxide Based Silicon Etchants
机译:
氢氧化硅蚀刻剂中的四甲基铵的各向异性降低
作者:
G. Westwood
;
C. P. S. Hsu
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
59.
Nano-Structures Stiction Suppression by Molecular Structure Optimized Surface Energy Reduction Agent
机译:
分子结构优化表面能降低剂的纳米结构钝化抑制
作者:
T. Koide
;
S. Kimura
;
H. Iimori
;
T. Sugita
;
K. Sato
;
S. Kumon
;
Y. Terui
;
Y. Okumura
;
Y. Ogawa
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
60.
Thermally Activated Gas-Phase Chemical Reactions in a Single-Wafer Wet Clean Process
机译:
单晶片湿式清洁过程中的热活化气相化学反应
作者:
M. Kawaguchi
;
J. Zhu
;
C. Fischer
;
M. Xia
;
B. Bandarapu
;
S. Kon
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
61.
Challenges on Surface Conditioning in 3D Device Architectures: Triple-Gate FinFETs, Gate-All-Around Lateral and Vertical Nanowire FETs
机译:
3D设备架构中表面调节挑战:三栅鳍,门 - 全面横向和垂直纳米线FET
作者:
A. Veloso
;
V. Paraschiv
;
E. Vecchio
;
K. Devriendt
;
W. Li
;
E. Simoen
;
B. T. Chan
;
Z. Tao
;
E. Rosseel
;
R. Loo
;
A. P. Milenin
;
B. Kunert
;
L. Teugels
;
F. Sebaai
;
C. Lorant
;
D. van Dorp
;
E. Altamirano-Sanchez
;
S. Brus
;
P. Marien
;
C. Fleischmann
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
62.
Characterization of Ammonium Silicate Residue during Polysilazane (PSZ) Dry Etching in NF_3/H_2O Gas Chemistry
机译:
NF_3 / H_2O气体化学中聚硅氮烷(PSZ)干法蚀刻硅酸铵残留物的表征
作者:
H. T. Kim
;
M. S. Kim
;
J. S. Lee
;
G. M. Choi
;
J. G. Park
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
63.
Wetting, Adhesion and Stiction of 2D Materials
机译:
2D材料的润湿,粘附和静态
作者:
Stijn F. L. Mertens
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
64.
Ultimate Limits of Pattern Stability Due to Thermal Vibrations
机译:
由于热振动导致的图案稳定性的极限限制
作者:
D. W. Bassett
;
A. L. P. Rotondaro
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
65.
Effect of VUV Lamp on Wafer Charging by Single-Wafer Wet Clean
机译:
VUV灯对单晶片湿清洁晶圆充电的影响
作者:
Ken-ichi Sano
;
Rafal Dylewicz
;
Xia Man
;
David Lou
;
Ji Zhu
;
Greg Harm
;
Mark Kawaguchi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
66.
Environmental Impact and Speciation Analysis of Chemical Mechanical Planarization (CMP) Waste Following GaAs Polishing
机译:
GaAs抛光后化学机械平坦化(CMP)废物的环境影响和规范分析
作者:
S. Crawford
;
S. Aravamudhan
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
67.
An Accurate Method for Determining Pattern Collapse Occurrence for Nano-Structures
机译:
用于确定纳米结构的模式塌陷的准确方法
作者:
H. Marumoto
;
H. Kawano
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2017年
68.
Effect of SiO_2 Etching Inhibitor to H_3PO_4 for the Selective Si_3N_4 Wet Etching of 3D NAND
机译:
SiO_2蚀刻抑制剂对3D NAND选择性Si_3N_4湿法蚀刻的H_3PO_4的影响
作者:
Taehyeon Kim
;
Changjin Son
;
Taegun Park
;
Sangwoo Lim
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
69.
Proactive Contamination Control for Sub 10nm Particle in Advanced Semiconductor Manufacturing
机译:
高级半导体制造中子10nm粒子的主动污染控制
作者:
S. Libman
;
G. Van Schooneveld
;
B. McIntosh
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
70.
Analysis of Polyethylene Latex Particle Removal Mechanism on SiO_2 Wafer Using Ultrasonic Spray Cleaning
机译:
超声喷涂清洁分析SiO_2晶片上的聚乙烯胶乳颗粒去除机制
作者:
Y. Seike
;
R. Sawaki
;
R. Shimizu
;
T. Hikida
;
Y. Honda
;
M. Sato
;
T. Mori
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
71.
Study of Si Nanowire Surface Cleaning
机译:
Si纳米线表面清洁研究
作者:
Shota Iwahata
;
Yukifumi Yoshida
;
Kana Komori
;
Dennis van Dorp
;
Kurt Wostyn
;
Farid Sebaai
;
Frank Holsteyns
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
72.
The Adhesion and Removal Mechanism of Ceria Particles for STI Post-CMP Cleaning Process
机译:
STI后CMP清洗工艺纤维颗粒的粘附和去除机理
作者:
N. P. Yerriboina
;
S. Sahir
;
S. Y. Han
;
K. M. Han
;
J. G. Park
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
73.
Selective Si_3N_4 Etching in Si_3N_4/SiO_2 Pair-Layer Stack Using Non-H_3PO_4-Based Superheated Water
机译:
使用基于非H_3PO_4的过热水在SI_3N_4 / SIO_2对叠层中选择性SI_3N_4蚀刻
作者:
Changjin Son
;
Sangwoo Lim
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
74.
Wet Etching Inside Advanced High Aspect Ratio Structures: Impact of Dissolved Oxygen
机译:
湿法蚀刻高级高纵横比结构:溶解氧的影响
作者:
T. Sakazaki
;
H. Kosugi
;
D. W. Bassett
;
I. A. Simms
;
A. L. P. Rotondaro
;
T. Q. Hurd
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
75.
Quantitative Modelling of Deposition of Airborne Molecular Contamination
机译:
空气传播分子污染沉积的定量建模
作者:
P. W. Mertens
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
76.
Reaction of Aqueous Tetramethylammonium Sulfide on SiGe(100) 25 as a Function of pH
机译:
硫化物水溶液水溶液在SiGe(100)25%的函数作为pH值
作者:
Zhonghao Zhang
;
A. J. Muscat
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
77.
Contact Area Distribution During PVA Brush Scrubbing
机译:
PVA刷擦洗期间的接触区域分布
作者:
T. Miyaki
;
T. Sanada
;
Y. Mizushima
;
A. Fukunaga
;
H. Hiyama
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
78.
Wet Metal Recess Process for Enabling Scaling Boosters
机译:
用于启用缩放助推器的湿金属凹陷过程
作者:
Yuya Akanishi
;
Els Kesters
;
Quoc Toan Le
;
Antoine Pacco
;
Frank Holsteyns
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
79.
Capillary Pattern Collapse: Prediction and Prevention from Past to Future
机译:
毛细管图案崩溃:预测和预防过去到未来
作者:
D. W. Bassett
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
80.
Physical Simulation and Visualization of The Marangoni Convection inside Meniscus Region under IPA Vapor in Wafer Drying Process
机译:
晶圆干燥过程IPA蒸汽下半月板区域Marangoni对流的物理仿真与可视化
作者:
N. Ono
;
T. Yamada
;
S. Miura
;
T. Ishibashi
;
H. Matsuo
;
K. Watanabe
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
81.
Ion-Implanted Photoresist Stripping by using Organic Solvents
机译:
通过使用有机溶剂离子植入的光致抗蚀剂汽提
作者:
Eunseok Oh
;
Sangwoo Lim
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
82.
A New Approach to Tackle Wafer Contact Mark Contamination Issues in Marangoni Drying
机译:
在Marangoni干燥中解决晶圆接触标记污染问题的新方法
作者:
Gim Chen
;
Dennis Nemeth
;
Ismail Kashkoush
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
83.
Surface Contamination with Si and O Impurities for GaN Single-Crystalline Layers Grown by Ultra-High-Vacuum Sputter Epitaxy
机译:
用超高真空溅射扩大的GaN单晶层的Si和O杂质的表面污染
作者:
A-i Mizuno
;
Hiroyuki Shinoda
;
Nobuki Mutsukura
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
84.
Effect of Crystal Orientations of InGaAs on the Surface Reactions in Acidic Solutions
机译:
InGaAs晶体取向对酸性溶液表面反应的影响
作者:
Jihoon Na
;
Sangwoo Lim
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
85.
Real Time Nanoscale Cleaning Phenomenon Observation during PVA brush Scrubbing By Evanescent Field
机译:
渐逝场擦洗PVA刷擦洗期间的实时纳米级清洁现象观测
作者:
Y. Terayama
;
P. Khajornrungruang
;
K. Suzuki
;
K. Kusatsu
;
S. Hamada
;
Y. Wada
;
H. Hiyama
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
86.
Plasma Surface Preparation of III-V Materials: Quasi in-situ XPS Measurements and Integration Guidelines
机译:
III-V材料等离子体表面制备:准原位XPS测量和集成指南
作者:
N. Coudurier
;
F. Boyer
;
B. Pelissier
;
L. Toselli
;
C. Licitra
;
D. Mariolle
;
N. Chevalier
;
Ph. Rodriguez
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
87.
Comparison of Inorganic and Organic Acid Etching Processes on Germanium(100)
机译:
无机和有机酸蚀刻工艺对锗(100)的比较
作者:
S. L. Heslop
;
A. J. Muscat
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
88.
Molecular Dynamics Analysis on the Behavior of Water and Alcohol Liquids on a OH-Terminated SiO_2 Surface
机译:
用于OH-终止SiO_2表面的水和醇液体行为的分子动力学分析
作者:
Y. Yamaguchi
;
S. Nakaoka
;
T. Hayashi
;
M. Kawakami
;
D. Yano
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
89.
Vapor-phase Surface Cleaning of Electroplated Cu Films Using Anhydrous N_2H_4
机译:
使用无水N_2H_4的电镀Cu膜的气相表面清洁
作者:
Su Min Hwang
;
Luis Fabian Pena
;
Kui Tan
;
Harrison Sejoon Kim
;
Aswin L. N. Kondusamy
;
Zhiyang Qin
;
Yong Chan Jung
;
Jean-Francois Veyan
;
Daniel Alvarez
;
Jeff Spiegelman
;
Jiyoung Kim
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
90.
Development of 'Soft' Cleaning Chemistries for Enhanced STI Post-CMP Cleaning
机译:
增强STI后CMP清洗“软”清洗化学的发展
作者:
Carolyn F. Graverson
;
Katherine M. Wortman-Otto
;
Abigail N. Linhart
;
Tala B. Zubi
;
Jason J. Keleher
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
91.
Study on La_2O_3 Wet Clean by pH Controlled Functional Water
机译:
PH控制功能水研究LA_2O_3湿式清洁
作者:
Yuichi Ogawa
;
Hideaki Iino
;
Takeo Fukui
;
Yusuke Oniki
;
Yuya Akanishi
;
Efrain Altamirano-Sanchez
;
Frank Holsteyns
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
92.
Process Development of Radical Based Dry Clean for Advanced 3D NAND Fabrication
机译:
用于高级3D NAND制造的自由基干净清洁的过程开发
作者:
Shanyu Wang
;
Wilson Zeng
;
Chun Yan
;
Hua Chung
;
Pete Lembesis
;
Jack Lo
;
Shawming Ma
;
Ryan Pakulski
;
Michael Yang
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
93.
Skin Layer Effects on Adhesion Forces of PVA Brushes and Its Temperature Dependence
机译:
皮肤层对PVA刷粘附力及其温度依赖性的影响
作者:
Keishi Yamada
;
Toshiyuki Sanada
;
Yuki Mizushima
;
Akira Fukunaga
;
Hirokuni Hiyama
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
94.
Selective Etches for Gate-All-Around (GAA) Device Integration: Opportunities and Challenges
机译:
用于门口的选择性蚀刻(GAA)设备集成:机会和挑战
作者:
Y. Oniki
;
E. Altamirano-Sanchez
;
F. Holsteyns
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
95.
Kinetic Effect of Additives in High Temperature Phosphoric Acid on the Etching of Si_3N_4/SiO_2
机译:
高温磷酸中添加剂对Si_3N_4 / SiO_2的蚀刻的动力学作用
作者:
Taegun Park
;
Taehyeon Kim
;
Changjin Son
;
Sangwoo Lim
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
96.
Wet cleaning by using amphoteric electrolyzed water for mask cleaning
机译:
使用两性电解水进行掩模清洁的湿式清洁
作者:
Kunkul Ryoo
;
Younwon Jung
;
Insik Choi
;
Hyungwon Kim
;
Jaeyong Lee
;
Byungsun Choi
会议名称:
《International Symposium on Semiconductor Cleaning Science and Technology》
|
2019年
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