机译:基于残留纳米掩膜的多种多样的纳米结构林的制造,该掩膜是通过氧等离子体去除光刻胶而合成的
机译:下游基于H_2和O_2的等离子体对光致抗蚀剂,硅和氮化硅的去除效果的比较
机译:氧等离子体剥离光致抗蚀剂技术实现的基于纳米柱森林的微流表面增强拉曼散射传感器
机译:基于氧化硅纳米图的氧等离子体去除光致抗蚀剂的氧化硅纳米图的制备
机译:在精确位置制造单硅/二氧化硅纳米柱的新颖方法。
机译:在SU-8光刻胶上的聚吡咯上使用电沉积硅制造视网膜假体测试装置
机译:使用常压等离子体射流流出物优化从硅晶片去除光致抗蚀剂