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机译:使用常压等离子体射流流出物优化从硅晶片去除光致抗蚀剂
West Andrew; van der Schans Marc; Xu Cigang; Gans Timo; Cooke Mike; Wagenaars Erik;
机译:蒸汽-水混合射流物理作用的参数研究:从硅晶片表面去除光刻胶膜
机译:使用O_2 / N_2中压等离子体射流通过高速晶圆扫描去除光刻胶:单层光刻胶研究
机译:使用大气压等离子体喷射器中的活性氧快速下游去除光刻胶
机译:大气压空气等离子体射流及其在光刻胶材料刻蚀中的应用
机译:大气压微等离子体射流用于单片电池应用的局部表面功能化。
机译:冷常压 - 压力导管和等离子体喷射的直接和间接杀菌作用
机译:快速,从大气压等离子体射流的流出物中使用反应性氧物种去除光致抗蚀剂的下游去除
机译:常压等离子体产生装置,常压等离子体产生电路和常压等离子体产生方法
机译:气态废水的常压等离子体处理
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