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【24h】

Influence and Comparison of Cu and Alu Metallization Schemes on Endurance of embedded Flash Memories

机译:Cu和Alu金属化方案对嵌入式闪存耐久性的影响及比较

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摘要

The hydrogen budget and the permeability of the deposition layers in the metallization layers of Flash memories determine the program/erase performance of these cells. In general these layers must be optimized together to get the best endurance.
机译:闪存中金属化层中沉积层的氢预算和渗流层的渗透性决定了这些细胞的程序/擦除性能。通常,这些层必须一起优化以获得最佳耐力。

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