denuded zone; oxygen precipitate; silicon;
机译:氮掺杂对切克劳斯基硅片中快速热处理形成的裸露区的影响
机译:基于氮气氛下快速热处理的切克劳斯基硅片中氧沉淀物剥蚀区的形成
机译:通过快速热处理在Czochralski硅片中形成的剥蚀区内的氧气沉淀
机译:Czochralski硅晶片快速热过程形成氮掺杂对剥离区的影响
机译:CZOCHRALSKI硅晶圆中的裸露区域。
机译:直接耦合热退火的脉冲激光沉积一步法制氮掺杂石墨烯薄膜的电分析性能
机译:CZOCHRALSKI硅晶圆中的裸露区域。
机译:Czochralski硅基板的快速热处理:缺陷,裸露区域和少数载流子寿命