critical dimension uniformity (CDU); across-wafer CDU; multi-zone PEB bake plate; zone offsets; process control; process modeling; nonlinear optimization;
机译:等离子蚀刻中晶圆间均匀性控制的发展
机译:集成的烘烤/冷却系统,用于在光刻胶处理中控制整个晶圆的温度均匀性
机译:PEB平板优化CD均匀性
机译:通过控制多区域PEB轮廓增强晶片间CD的均匀性
机译:两个神经节孢子一天特定时间的cDNA文库中的表达谱和时钟控制基因的鉴定
机译:PEB4突变改变空肠弯曲菌的外膜蛋白谱
机译:通过控制多区域pEB轮廓增强跨晶圆CD均匀性
机译:透明多区晶体生长炉中温度和界面轮廓反馈的界面自适应控制