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Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography
Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography
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1.
A new optical technique for monitoring wafer curvature and stress during copper damascene processing
机译:
一种用于监测铜镶嵌处理期间晶片曲率和应力的新光学技术
作者:
Carol Boye
;
Ronald Carpio
;
Jennifer Woodring
;
Dave Owen
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
non-visual mechanical defects;
coherent grating system;
dual damascene;
2.
Alignment Mark Signal Simulation System for the Optimum Mark Feature Selection
机译:
用于最佳标记特征选择的对齐标记信号仿真系统
作者:
Takashi Sato
;
Ayako Endo
;
Tatsuhiko Higashiki
;
Kazutaka Ishigo
;
Takuya Kono
;
Takashi Sakamoto
;
Yoshiyuki Shioyama
;
Satoshi Tanaka
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
alignment;
overlay;
mark;
signal;
simulation;
system;
process;
3.
Scatterometry Feasibility Studies for 0.13-Micron Flash Memory Lithography Applications; Enabling Integrated Metrology
机译:
0.13微米闪存光刻应用的散射测定法研究;启用综合计量
作者:
Kevin Lensing
;
Clint Miller
;
Bryan Swain
;
Michael Laughery
;
Anita Viswanathan
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
integrated metrology (IM);
advanced process control (APC);
shallow trench isolation (STI);
poly gate;
stacked gate;
aluminum interconnect;
4.
A comparison of methods for in-chip overlay control at the 65 nm node
机译:
65 nm节点在片上覆盖控制方法的比较
作者:
John C. Robinson
;
Mark Stakely
;
Jorge M. Poplawski
;
Pavel Izikson
;
Elyakim Kassel
;
Mike E. Adel
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
overlay;
metrology;
in-chip;
pattern placement error;
process control;
5.
Simultaneous Critical Dimension and Overlay Measurements on a SEM Through Target Design for Inline Manufacturing Lithography Control
机译:
通过针对内联制造光刻控制的SEM同时关键尺寸和覆盖测量
作者:
Eric Solecky
;
Jaime D. Morillo
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
critical dimension;
CD SEM;
overlay;
OL;
target design;
6.
Preliminary Evaluation of Line Edge Roughness Metrology based on CD-SAXS
机译:
基于CD-SAX的线边缘粗糙度计量初步评估
作者:
Ronald L. Jones
;
Tengjiao Hu
;
Christopher L. Soles
;
Eric K. Lin
;
Wen-li Wu
;
Diego M. Casa
;
Arpan Mahorowala
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
CD metrology;
X-ray scattering;
sub-100 nm lithography;
7.
OPC Accuracy and Process Window Verification Methodology for Sub-100nm Node
机译:
OPC精度和过程窗口验证方法为SUB-100NM节点
作者:
Hyunjo Yang
;
Chanha Park
;
Jongkyun Hong
;
Goomin Jeong
;
Byeongho Cho
;
Jaeseung Choi
;
Choonsu Kang
;
Kiho Yang
;
Eunsook Kang
;
Seokho Ji
;
Donggyu Yim
;
Youngwook Song
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
optical lithography;
RET;
core and peripherals;
PWQ;
CAD data;
OPC verification;
NMQ;
8.
Reticle Surface Contaminants and Their Relationship to Sub-pellicle Defect Formation
机译:
掩盖表面污染物及其与亚薄膜缺损形成的关系
作者:
Brian J. Grenon
;
Kaustuve Bhattacharyya
;
William Volk
;
Khoi Phan
;
Andre Poock
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
reticle;
sub-pellicle;
contamination;
haze;
ammonium sulfate;
ToF-SFMS;
raman spectroscopy;
TeraStar;
STARlight;
URSA;
9.
193 nm resist shrinkage carryover effect to a post-etch layer due to CD-SEM measurement
机译:
193 nm由于CD-SEM测量而导致的蚀刻后层收缩抵抗效果
作者:
Gary X. Cao
;
Nancy J. Wheeler
;
Alan Wong
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
193 nm resist;
CD shrinkage;
resist slimming;
CD-SEM;
carryover effect;
shrinkage finger-print;
lithography;
etch;
10.
Evaluation of New In-chip and Arrayed Line Overlay Target Designs
机译:
评估新型片内和阵列线覆盖目标设计
作者:
R. Attota
;
R. M. Silver
;
M. Bishop
;
E. Marx J. Jun
;
M. Stocker
;
M. Davidson
;
R. Larrabee
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
in-chip overlay targets;
overlay metrology;
proximity effect;
optical interaction;
focus metric;
best focus;
CD metrology;
focus metric signature;
11.
Target Noise in overlay metrology
机译:
覆盖计量中的目标噪声
作者:
Joel Seligson
;
Mike Adel
;
Pavel Izikson
;
Vladimir Levinski
;
Dan Yaffe
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
12.
Optimization of scatterometry parameters for Shallow Trench Isolation (STI) monitor
机译:
浅沟槽隔离散射参数的优化(STI)监视器
作者:
Philippe Leray
;
Shaunee Cheng
;
Stephanie Kremer
;
Monique Ercken
;
Ivan Pollentier
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
shallow trench isolation (STI) characterization;
monitor;
CD;
13.
Reducing measurement uncertainty drives the use of multiple technologies for supporting metrology
机译:
减少测量不确定性驱动使用多种技术来支持计量
作者:
Bill Banke
;
Chas Archie
;
Matthew Sendelbach
;
Jim Robert
;
Jim Slinkman
;
Phil Kaszuba
;
Rick Kontra
;
Mick DeVries
;
Eric Solecky
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
metrology;
reference measurement system;
RMS;
total measurement uncertainty;
TMU;
critical dimension;
CD;
accuracy;
precision;
calibration;
14.
Determination of Optimal Parameters for CD-SEM Measurement of Line Edge Roughness
机译:
线边缘粗糙度CD-SEM测量的最佳参数的测定
作者:
Benjamin D. Bunday
;
Michael Bishop
;
Donald McCormack
;
John S. Villarrubia
;
Andras E. Vladar
;
Ronald Dixson
;
Theodore Vorburger
;
Ndubuisi G. Orji
;
John A. Allgair
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
dimensional metrology;
line edge roughness (LER);
line width roughness (LWR);
metrics;
power spectral density (PSD);
scanning electron microscopy (SEM);
15.
Electrical Linewidth Metrology for sub-65nm Applications
机译:
SUB-65NM应用的电气线宽计量
作者:
Greet Storms
;
Shaunee Cheng
;
Ivan Pollentier
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
ELM;
ECD offset;
ELM substrate material;
CD-SEM;
16.
Contact hole edge roughness: circles vs. stars
机译:
接触孔边缘粗糙度:圆圈与星星
作者:
Andrew Habermas
;
Qingyou Lu
;
David Chase-Colin
;
Michael Har-Zvi
;
Aviram Tarn
;
Omer Sagi
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
contact edge roughness;
CER;
correlation length;
CL;
17.
Spectroscopic ellipsometry-based scatterometry for depth and line width measurements of polysilicon-filled deep trenches
机译:
基于光谱椭圆形的散射测定法用于多晶硅填充深沟的深度和线宽测量
作者:
Thomas Hingst
;
Manfred Moert
;
Peter Reinig
;
Elke Backen
;
Rene Dost
;
Peter Weidner
;
John Hopkins
;
Ted Dziura
;
Assim Elazami
;
Regina Freed
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
spectroscopic ellipsometry;
DRAM;
polysilicon recess;
depth control;
18.
Multivariate analysis of a 100nm process measured by in-line scatterometry
机译:
在线散射测量测量的100nm过程的多变量分析
作者:
Sebastien Egret
;
Tetsunari Furusho
;
Bart Baudemprez
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
PLS;
APC;
19.
Alignment in Chromeless Masks
机译:
在无晶面具中对齐
作者:
Moitreyee Mukherjee-Roy
;
Navab Singh
;
Sohan Singh Mehta
;
Hideki Suda
;
Takao Kubota
;
Yasuki Kimura
;
Hiroshi Kinoshita
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
20.
A new analysis strategy for CD metrology using rapid photo goniometry method
机译:
快速照相测量法的CD计量新分析策略
作者:
J. Petit
;
P. Barritault
;
J. Hazart
;
P. Chaton
;
P. Boher
;
M. Luet
;
T. Leroux
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
RCWA;
photo-goniometry;
OFT;
fourier optics;
21.
Low Vacuum Microscopy for Mask Metrology
机译:
低真空显微镜检查掩模计量
作者:
David C Joy
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
CD metrology;
variable pressure SEM;
charging;
ionization;
contamination;
22.
Total measurement uncertainty and total process precision evaluation of a structural metrology approach to monitoring post-CMP processes
机译:
总测量不确定度和总过程精确评估结构计量方法,监测后CMP过程
作者:
Wei Lu
;
Charles Archie
;
Stacey Stone
;
Hyoung Kang
;
Prasanna Chitturi
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
chemical mechanical planarization (CMP);
precision;
total process precision (TPP);
accuracy;
reference measurement system (RMS);
dual beam (DB);
focused ion beam (FIB);
X-SEM or cross-section SEM;
total measurement uncertainty (TMU);
23.
High-resolution Optical Overlay Metrology
机译:
高分辨率光学叠加计量
作者:
R. M. Silver
;
R. Attota
;
M. Stocker
;
M. Bishop
;
J. Jun
;
E. Marx
;
M. Davidson
;
R. Larrabee
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
24.
Resolution Enhancement Technology: The Past, the Present, and Extensions for the Future
机译:
解决方案增强技术:过去,目前和未来的扩展
作者:
Franklin M. Schellenberg
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
history of optics;
abbe;
resolution;
resolution enhancement;
RET;
polarization;
25.
Quantification of CD SEM Wafer Global Charging Effect on CD and CD Uniformity of 193 nm Lithography
机译:
量化CD SEM晶圆全局充电效果对193 nm光刻的CD和CD均匀性
作者:
Chih-Ming Ke
;
Hsueh-Liang Hung
;
Anderson Chang
;
Jeng-Horng Chen
;
Tsai-Sheng Gau
;
Yao-Ching Ku
;
Burn J. Lin
;
Tadashi Otaka
;
Kazuhiro Ueda
;
Hiroki Kawada
;
Hiroaki Nomura
;
Nelson Ren
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
wafer charging;
retarding voltage focus;
CD;
CDU;
193 nm;
ArF resist;
shrinkage;
26.
Improved overlay metrology device correlation on 90 nm logic processes
机译:
改进了90nm逻辑过程的覆盖计量器件相关性
作者:
Atsushi Ueno
;
Kouichirou Tsujita
;
Hiroyuki Kurita
;
Yasuhisa Iwata
;
Mark Ghinovker
;
Jorge Poplawski
;
Elyakim Kassel
;
Mike Adel
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
overlay;
optical metrology;
grating target;
overlay mark;
box-in-box;
AIM;
27.
Phase defect detection with spatial heterodyne interferometry
机译:
具有空间外差干扰法的相位缺陷检测
作者:
Philip R. Bingham
;
Kenneth W. Tobin
;
Marylyn H. Bennett
;
Pat Marmillion
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
mask inspection;
phase defects;
spatial heterodyne interferometry;
28.
Comparison of Actinic Lens Characterization by Arial Image Evaluation and Interferometric Testing for 157nm high-NA Micro-Objectives
机译:
Arial Image评估和干涉式测试对157nm高NA微观物体的光化镜头表征的比较
作者:
H. Schreiber
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
29.
Assessments on process parameters' influences to the proximity correction
机译:
进程参数的评估对邻近校正的影响
作者:
Eun-Mi Lee
;
Sung-Woo Lee
;
Doo-Youl Lee
;
Soo-Han Choi
;
Joo-On Park
;
Sung-Gon Jung
;
Gi-Sung Yeo
;
Jung-Hyeon Lee
;
Han-Ku Cho
;
Woo-Sung Han
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
proximity;
OCV;
OPC;
grid size;
30.
Characterization of an 100 nm 1D pitch standard by metrological SEM and SFM
机译:
表征由Metrologologe SEM和SFM的100nm 1D间距标准
作者:
W. Haessler-Grohne
;
T. Dziomba
;
C.G. Frase
;
H. Bosse
;
J. Prochazka
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scanning electron microscope;
scanning force microscope;
AFM;
pitch calibration;
correlation;
fourier series;
31.
3D-FEATURES ANALYSIS USING SPECTROSCOPIC SCATTEROMETRY
机译:
3D - 功能分析光谱散射法
作者:
Quintanilha R.
;
Thony P.
;
Henry D.
;
Hazart J.
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
spectroscopic scatterometry;
2D-gratings;
holes matrix;
32.
Overlay Measurement Tool up to 70nm Design Rule
机译:
覆盖测量工具高达70nm的设计规则
作者:
T. Fukui
;
H. Aoki
;
T. Endo
;
T.Yamada
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
overlay;
measurement;
TIS;
33.
Study of 3D metrology techniques as an alternative to cross-sectional analysis at the RD level
机译:
3D计量技术作为研发水平横截面分析的替代
作者:
J. Foucher
;
K. Miller
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
metrology;
CD;
AFM;
SEM;
precision;
roughness;
cross-section;
34.
193nm Resist Roughness Characterisation and Process Propagation Investigation Using a CD-SEM
机译:
使用CD-SEM的193NM抗蚀剂粗糙度表征和过程传播调查
作者:
Thomas Marscnher
;
Anice Lee
;
Stefan Fuchs
;
Lars Voelkel
;
Christian Stief
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
CD-SEM;
line edge roughness;
193nm resist;
spatial frequency;
35.
A New Approach to Pattern Metrology
机译:
一种模拟计量的新方法
作者:
Christopher P. Ausschnitt
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
integrated metrology;
process control;
critical dimension;
overlay;
film thickness;
lithography;
etch;
36.
Low Impact Resist Metrology: The use of ultra low voltage for high accuracy performance
机译:
低抗冲击计量:使用超低电压进行高精度性能
作者:
G. Sundaram
;
N.T. Sullivan
;
T. Mai
;
C.M. Ke
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
metrology;
resist;
193nm;
CD-SEM;
ultra-low voltage;
slimming;
LER;
OPC;
37.
The estimation of total measurement uncertainty in a multiple metrology tool environment
机译:
多计量工具环境中总测量不确定性的估计
作者:
Justin J. Hwu
;
Thao J. Pham
;
Sukhbir Dulay
;
Andrew Lopez
;
Peter Wilkens
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
total measurement uncertainty;
total measurement bias uncertainty;
mandel analysis;
nonlinear total measurement bias uncertainty;
ANOVA;
CDSEM;
CDAFM;
38.
Dimensional Metrology of Resist Lines using a SEM Model-Based Library Approach
机译:
基于SEM模型的库方法的抗蚀线尺寸计量
作者:
J. S. Villarrubia
;
A. E. Vladar
;
B. D. Bunday
;
M. Bishop
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
critical dimension (CD);
linewidth;
model-based library metrology;
resist;
scanning electron microscopy (SEM);
39.
Feedforward of mask open measurements on an integrated scatterometer to improve gate linewidth control
机译:
掩模的前馈在集成散射计上打开测量以改善栅极线宽控制
作者:
Matthew Sendelbach
;
Wesley Natzle
;
Chas Archie
;
Bill Banke
;
Dan Prager
;
Dan Engelhard
;
Jason Ferns
;
Asao Yamashita
;
Merritt Funk
;
Fumihiko Higuchi
;
Masayuki Tomoyasu
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
integrated scatterometry;
CD-SEM;
total measurement uncertainty;
TMU;
feedforward;
gate control;
chemical oxide removal;
COR;
ODP;
40.
A simple, robust, bias-free method of calculating CD-SEM resolution
机译:
一种简单,坚固,无偏见的计算CD-SEM分辨率的方法
作者:
Ira Rosenberg
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scanning electron microscopy;
resolution;
metrology;
measurement repeatability;
41.
Reference Metrology using a Next Generation CD-AFM
机译:
使用下一代CD-AFM参考计量
作者:
Ronald Dixson
;
Angela Guerry
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
AFM;
metrology;
CD;
linewidth;
reference measurement system;
standards;
calibration;
traceability;
42.
Effective-medium model for fast evaluation of scatterometric measurements on gratings
机译:
快速评估光栅散射测量的有效培养基模型
作者:
A. Weidner
;
M. Slodowski
;
C. Halm
;
C. Schneider
;
L. Pfitzner
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
effective-medium model;
zero-order grating;
linewidth measurement;
43.
Across-wafer CD Uniformity Enhancement through Control of Multi-zone PEB Profiles
机译:
横跨晶圆CD均匀性通过控制多区PEB配置文件来增强
作者:
Qiaolin Zhang
;
Paul Friedberg
;
Cherry Tang
;
Bhanwar Singh
;
Kameshwar Poolla
;
Costas J. Spanos
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
critical dimension uniformity (CDU);
across-wafer CDU;
multi-zone PEB bake plate;
zone offsets;
process control;
process modeling;
nonlinear optimization;
44.
Sub-50 nm isolated line and trench width artifacts for CD metrology
机译:
SUS-50 NM隔离线和CD计量的沟槽宽度伪影
作者:
M. Tortonese
;
G. Lorusso
;
R. Blanquies
;
J. Prochazka
;
L. Grella
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
critical dimension;
CD-SEM;
CD-AFM;
line edge roughness;
line width roughness;
LER;
LWR;
45.
An image stitching method to eliminate the distortion of the sidewall in linewidth measurement
机译:
用于消除线宽测量中侧壁失真的图像拼接方法
作者:
Xuezeng Zhao
;
Joseph Fu
;
Wei Chu
;
Cattien Nguyen
;
Theodore Vorburger
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
linewidth;
sidewall;
atomic force microscopy (AFM);
nanotube probe;
image stitching method;
image registration;
46.
Methods for Evaluating Lithographic Performance of Exposure Tools for the 45nm node: ECD and Scatterometry
机译:
用于评估45nm节点的曝光工具的光刻性能的方法:ECD和散射测定法
作者:
Karen Huang
;
Bryan J Rice
;
Brian Coombs
;
Regina Freed
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
lithography;
ECD;
spectroscopic CD;
CD control;
lens characterization;
focus control;
scatterometry;
47.
CD-SEM-based Critical Shape Metrology of integrated circuits
机译:
基于CD-SEM的集成电路关键形状计量
作者:
Dmitry V. Gorelikov
;
Jason Remillard
;
Neal T. Sullivan
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
CD-SEM;
critical shape metrology;
CSM;
model-based library;
MBL;
monte-carlo;
sidewall angle;
CD bias;
48.
Evaluation of Alignment Performance of Different Exposure Tools Under Various CMP Conditions
机译:
在各种CMP条件下评估不同曝光工具的对准性能
作者:
Irit K. Abramovich
;
Woong-Jae Chung
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
alignment;
overlay;
W-CMP;
BEOL;
49.
Metrology of LER: influence of line-edge roughness (LER) on transistor performance
机译:
LER的计量:线边缘粗糙度(LER)对晶体管性能的影响
作者:
Atsuko Yamaguchi
;
Katsuhiko Ichinose
;
Satoshi Shimamoto
;
Hiroshi Fukuda
;
Ryuta Tsuchiya
;
Kazuhiro Ohnishi
;
Hiroki Kawada
;
Takashi Iizumi
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
line-edge roughness;
CD-SEM;
metrology;
transistor performance;
50.
Usage of Overlay Metrology Simulator in Design of Overlay Metrology Tools for the 65nm Node and beyond
机译:
覆盖计量模拟器在65nm节点及超频设计中的覆盖计量工具设计中的用途
作者:
Yariv Simovitch
;
Shahar Gov
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
overlay;
TIS;
simulation;
aberrations;
modeling;
51.
Logic Gate Scanner Focus Control in High-Volume Manufacturing Using Scatterometry
机译:
逻辑门扫描仪对焦于使用散射测定法在大批量生产中的控制
作者:
Richard Dare
;
Bryan Swain
;
Michael Laughery
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
52.
Effects of different processing conditions on line edge roughness for 193nm and 157nm resists
机译:
不同加工条件对193nm和157nm抗蚀剂线边缘粗糙度的影响
作者:
M. Ercken
;
L.H.A. Leunissen
;
I. Pollentier
;
G. P. Patsis
;
V. Constantoudis
;
E. Gogolides
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
line edge roughness (LER);
metrology;
193 and 157nm lithography;
shallow trench isolation (STI);
53.
Defect Inspection of Quartz-PSMs: Taking a Leap Forward
机译:
缺陷检查石英 - PSM:前进
作者:
J. Heumann
;
F. Schurack
;
W. Dettmann
;
L. Zurbrick
;
M. Lang
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
phase shift masks;
quartz defects;
mask inspection;
defect printability;
54.
Experimental methodology of contact edge roughness on sub-100 nm pattern
机译:
亚100nm模式下接触边缘粗糙度的实验方法
作者:
Tae Yong Lee
;
Dongchul Ihm
;
Hyo Chun Kang
;
Jun Bum Lee
;
Byoung Ho Lee
;
Soo Bok Chin
;
Do Hyun Cho
;
Yang Hyong Kim
;
Ho Dong Yang
;
Kyoung Mo Yang
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
line edge roughness (LER);
line width roughness (LWR);
contact edge roughness (CER);
contact space roughness (CSR);
golden image;
geometric mean;
55.
Improving the Uncertainty of Photomask Linewidth Measurements
机译:
改善光掩模线宽测量的不确定性
作者:
J. M. Pedulla
;
J. Potzick
;
R. Silver
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
photomask;
linewidth;
measurement uncertainty;
optical modeling;
56.
Results of Benchmarking of Advanced CD-SEMs at the 90nm CMOS Technology Node
机译:
90nm CMOS技术节点的高级CD-SEM基准测试结果
作者:
Benjamin D. Bunday
;
Michael Bishop
;
John A. Allgair
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
57.
Contaminant Dry-Down Rates in Photolithography Purge Gases
机译:
光刻净化气体中的污染物干燥速率
作者:
Allan Tram
;
Russell J. Holmes
;
Jeffrey J. Spiegelman
;
Daniel Alvarez Jr.
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
photolithography;
purge gases;
contaminants;
materials of construction;
extreme clean dry air (XCDA);
impurity dry-down;
condensable organics;
inorganic acids;
refractory compounds;
58.
Characterization of new CD photomask standards
机译:
新型CD光掩模标准的表征
作者:
W. Mirande
;
B. Bodermann
;
W. Haessler-Grohne
;
C.G. Frase
;
S. Czerkas
;
H. Bosse
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
SEM;
UV transmission microscopy;
CD metrology;
photomask standard;
59.
Time-based PEB adjustment for optimizing CD distributions
机译:
用于优化CD分布的基于时间的PEB调整
作者:
Paul D. Friedberg
;
Cherry Tang
;
Bhanwar Singh
;
Thomas Brueckner
;
Wolfram Gruendke
;
Bernd Schulz
;
Costas J. Spanos
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
post exposure bake;
photolithography;
critical dimension variation;
lithography process control;
60.
Correlating scatterometry to CD-SEM and electrical gate measurements at the 90 nm node using TMU analysis
机译:
使用TMU分析将散射计到90nm节点的CD-SEM和电栅极测量
作者:
Matthew Sendelbach
;
Chas Archie
;
Bill Banke
;
Jason Mayer
;
Hideaki Nii
;
Pedro Herrera
;
Matt Hankinson
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
reference measurement system;
RMS;
CD-SEM;
total measurement uncertainty;
TMU;
gate;
electrical;
lpoly;
correlation;
61.
Successful application of angular scatterometry to process control in sub-100nm DRAM device
机译:
成功应用角散射测定法在Sub-100nm DRAM设备中处理控制
作者:
Jin-Ah Kim
;
Seong-Jin Kim
;
Soo-Bok Chin
;
Seok-Hwan OH
;
Doohoon Goo
;
Suk-Joo Lee
;
Sang-Gyun Woo
;
Han-Ku Cho
;
Woo-Sung Han
;
Joo-Tae Moon
;
Christopher J. Raymond
;
Mike Littau
;
Byungjoo Youn
;
Chang-Jin Sohn
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
optical;
metrology;
diffract;
CD;
OCD;
lithography;
62.
Scanner Overlay Mix and Match Matrix Generation; Capturing all Sources of Variation
机译:
扫描仪叠加混合和匹配矩阵生成;捕获所有变异来源
作者:
Stephen DeMoor
;
Jay Brown
;
John C. Robinson
;
Simon Chang
;
Colin Tan
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
alignment;
mix and match;
overlay;
metrology;
scanner;
stepper;
sources of variation;
63.
Metrology requirements for lithography's next wave
机译:
光刻下一波的计量要求
作者:
Harry J. Levinson
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
lithography;
metrology;
64.
Comparison of solutions to the scatterometry inverse problem
机译:
散射仪逆问题的解决方案比较
作者:
Christopher J. Raymond
;
Mike Littau
;
Andrei Chuprin
;
Simon Ward
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
optical;
metrology;
diffract;
CD;
regression;
real-time;
optimization;
65.
Improved Etch and CMP Process Control Using In-Line AFM
机译:
使用在线AFM改进蚀刻和CMP过程控制
作者:
Thomas Trenkler
;
Thomas Kraiss
;
Ulrich Mantz
;
Peter Weidner
;
Rebecca Howland Pinto
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
AFM;
in-line metrology;
line monitoring;
after etch;
post CMP;
STI;
trench capacitor;
trench depth;
66.
CD Metrology for the 45nm and 32nm Nodes
机译:
45nm和32nm节点的CD计量
作者:
Bryan J. Rice
;
Heidi Cao
;
Ovijut Chaudhuri
;
Michael Grumski
;
Bruce Hartenek
;
Alex Liddle
;
Deirdre Olynick
;
Jeanette Roberts
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
CD metrology;
CD SEM;
scatterometry;
AFM;
dual beam;
HV SEM;
67.
Damage-free Metrology of Porous Low-k Dielectrics using CD-SEM
机译:
使用CD-SEM的多孔低k电介质的无损伤计量
作者:
Zh. H. Cheng
;
M. Nozoe
;
M. Ezumi
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
68.
90 nm Lithography Process Characterization using ODP Scatterometry Technology
机译:
使用ODP散射技术的90nm光刻工艺表征
作者:
Chih-Ming Ke
;
Shinn-Sheng Yu
;
Yu-Hsi Wang
;
Yu-Jun Chou
;
Jeng-Horng Chen Bih-Huey Lee
;
Hong-Yuan Chu
;
Hua-Tai Lin
;
Tsai-Sheng Gau
;
Chih-Hsiang Lin
;
Yao-Ching Ku
;
Burn J. Lin
;
Jacky Huang
;
JJ Hsu
;
Victor Liu
;
Dave Hetzer
;
Lip Yap
;
Wenge Yang
;
Araki Kaoru
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
;
SPIE v.5375 pt.1
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography》
|
2004年
关键词:
scatterometry;
CD-SEM;
CD uniformity;
optical CD;
ODP;
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