Electron beam lithography; Nano-electroplating; Nano-imprint; PDMS; Three-dimensional lithography;
机译:通过电子束光刻图案化的微米级特征和表面化学功能:制备聚二甲基硅氧烷(PDMS)印模的新途径
机译:硅纳米线器件制造中电子束灰度光刻的实现和邻近效应校正
机译:灰度电子束光刻一步制造微光子学聚合物组分
机译:用灰度电子束光刻制备UV纳米压印光刻和微接触印刷的3-D PDMS纳米模板
机译:用于半导体器件的纳米压印和电子束光刻材料的开发和研究。
机译:用于微接触印刷的低成本无光刻的印模制造
机译:电子束光刻图案化的微观特征和表面化学功能:聚(二甲基硅氧烷)(PDMS)印花制造的新途径