机译:新型非化学放大的分子抗蚀剂设计,具有用于多光刻应用和纳米透明仪的可切换敏感性
机译:基于环状低聚物的化学放大分子抗蚀剂的抗蚀性能研究
机译:减少化学放大型抗蚀剂的曝光后延迟连接和污染敏感性:使用离线环境进行光刻的应用
机译:稳定化学放大的分子设计可抵抗空气传播的污染
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:基于环状低聚物的化学放大分子抗蚀剂的抗蚀性能研究
机译:抗蚀剂材料设计:碱催化化学扩增。