ターゲット中央からガス供給される不平衡マグネトロン スパッタリングにおける直流およびパルス放電特性

摘要

UBMSを使用して、成膜材料であるターゲットの中央に 穴を開け、中心からターゲットの表面に向けてガスを供給 する新方式のターゲットを使用して、DC放電とパルス放電 による特性の比較を行った。DC放電においては拡散壁ター ゲットを使用することで、成膜速度は向上するが投入電力 や電流量は滅少した。パルス放電を行った場合も同様に、 拡散壁ターゲットよりも孔なしターゲットの方が電力や電 流が高い値となっていた。