机译:纳米晶硅薄膜晶体管的加氢,采用电感耦合等离子体化学气相沉积技术,用于柔性电子产品
机译:通过在350摄氏度下感应耦合等离子体化学气相沉积制备的高质量纳米晶硅薄膜
机译:在In0.82Al0.18As上通过电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积生长的氮化硅膜的界面特性
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积(ICP-CVD)在150℃下沉积的纳米晶硅薄膜
机译:通过改进的微波等离子体辅助化学气相沉积金刚石工艺制造的薄膜冷阴极材料的生长,表征和电子场发射测量。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频电感耦合等离子体在金刚石状碳膜的化学气相沉积过程中的应用,用于改性沉积膜的性能