electron-beam lithography; multiple beam direct write; electron optics; microcolumn; maskless lithography;
机译:大规模平行电子束光刻中用于纳米级光发射源的静电微柱设计
机译:使用紫外线可固化正性电子束光刻胶,通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
机译:通过直接写入电子束光刻技术制造DFB激光器光栅的设计方面
机译:多重电子束光刻静电微柱的设计与制造
机译:用于多束电子束光刻的薄膜栅极光阴极。
机译:通过热压印光刻技术设计和制造基于环的PDMS软探针用于生物系统中的传感和驱动力。
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:用于制造悬挂掩模的使能技术,用于在UHV环境中完成器件制造