E-beam lithography; mask registration; overlay; charging effect correction; charge dissipating layer;
机译:先进掩模制造中由电荷引起的图案定位误差的表征
机译:纳米图形高能电子束光刻的仿真-电子束光刻模拟器的发展
机译:纳米图形高能电子束光刻的仿真-电子束光刻模拟器的发展
机译:使用电子束光刻探索掩模制作中充电诱导的图案定位误差的起源
机译:用于自然缺陷分析的极紫外光刻掩模版的局部掩模图案
机译:几丁质和壳聚糖的胶体和自掩蔽图案的纳米球光刻。
机译:通过电子束光刻图案化并通过干法蚀刻定义的TiN / Ni纳米点阵列上单个碳纳米管的生长,用于场发射应用