机译:用于电荷俘获闪存的原子层沉积多层HfO2 / Al2O3堆中的导电和充电机理分析
机译:各种厚度的HfO2层的电荷俘获特性rn对于电荷陷阱闪存应用
机译:低温原子层沉积HfO_2膜,用于高性能电荷捕获闪存应用
机译:用原子层沉积(ALD)优化HFO2生长过程,用于高性能电荷诱导闪存应用
机译:薄膜应用的分子工程:区域选择性原子层沉积(ALD)和分子原子层沉积(MALD)。
机译:单个ALD步骤在〜3 nm ZnO纳米岛上的沉积及其在电荷陷阱存储中的应用
机译:原子层沉积多层HFO2 / Al2O3堆叠的传导和充电机构分析,用于电荷捕获闪存
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。