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Simulation of total dose influence on analog-digital SOI/SOS CMOS circuits with EKV-RAD macromodel

机译:用EKV-RAD宏模型模拟总剂量对模数SOI / SOS CMOS电路的影响

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摘要

An EKV-RAD macromodel for SOI/SOS MOSFET with account for radiation effects is developed using a subcircuit approach. As an addition to the standard version of the EKV model 1) radiation dependencies of parameters VTO, GAMMA, KP, E0 are introduced and 2) additional circuit elements to account for floating-body effects and radiation-induced leakage currents under static and dynamic radiation influence are connected. Maximum simulation error is 5–7% in the dose range up to 1 Mrad. It is shown that EKV-RAD spends less CPU time by 15–30% for analog and 40–50% for digital SOI/SOS CMOS circuits simulations compared to BSIM-SOI-RAD model.
机译:使用子电路方法开发了考虑到辐射效应的SOI / SOS MOSFET的EKV-RAD宏模型。作为EKV模型标准版本的补充,1)引入了参数VTO,GAMMA,KP,E0的辐射依赖性,以及2)额外的电路元件,以考虑浮体效应以及在静态和动态辐射下辐射引起的泄漏电流影响力是相互联系的。在最高1 Mrad的剂量范围内,最大模拟误差为5–7%。结果表明,与BSIM-SOI-RAD模型相比,EKV-RAD在模拟上花费的CPU时间减少了15–30%,在数字SOI / SOS CMOS电路仿真上花费的时间减少了40–50%。

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